假設(shè)第二個組態(tài)中第3、4個面處于1000℃的高溫，其他元件仍然在500℃的溫度

我們需要再插入一個TEMP操作數(shù)。在第二個TEMP之后的面的溫度將會與第1一個TEMP到第二個TEMP之間的面的溫度不同。如下圖，在面1和面2操作數(shù)之后插入TEMP，設(shè)定第1一個組態(tài)溫度仍然為20℃，第二個組態(tài)為1000℃。結(jié)果如下圖所示：在第二個組態(tài)中，現(xiàn)在面3的厚度大于面2的厚度。

以下為設(shè)置步驟

1.在表面5后面插入坐標間斷面(表面6)，設(shè)置相應(yīng)的厚度、傾斜度、偏心度，使得表面6的中心與我們定義的空間任意一點重合。本例中，我們假設(shè)任意一點位于透鏡2中心點上方20mm處。

2.在表面6后面再插入坐標間斷面(表面7)實現(xiàn)傾斜。本例中，設(shè)置沿X軸傾斜7°。

3.在表面7后面再插入坐標間斷面(表面8)實現(xiàn)坐標回歸。所有參數(shù)都設(shè)置為“拾取求解”，“From Surface”設(shè)置為6，“Scale Factor”設(shè)置為-1，注意“Order”設(shè)置為1。

4.在表面10后面再插入坐標間斷面(表面11)，將透鏡2后的光學(xué)元件返回到執(zhí)行步驟2之后的位置。

5.在表面11后面再插入坐標間斷面(表面12)，將透鏡2后的光學(xué)元件返回到執(zhí)行步驟1之后的位置。

6.在表面12后面再插入坐標間斷面(表面13)，將透鏡2后的光學(xué)元件返回到初始結(jié)構(gòu)位置。

任何光學(xué)元件都可以使用相同的方法，在任意坐標系統(tǒng)偏心和傾斜光學(xué)元件。

最后一個注意事項：當設(shè)置軸外點中心點時，我們可以隱藏一些坐標間斷面。當我不經(jīng)常更改中心點位置時，這樣可以簡化鏡頭數(shù)據(jù)編輯器。下圖顯示了簡化之后的鏡頭數(shù)據(jù)編輯器。點擊需要隱藏的表面，右擊選擇“隱藏面”，即可隱藏該表面。

Zemax OpticStudio使用頂點的曲率半徑、非球面系數(shù)和網(wǎng)格點數(shù)據(jù)來計算網(wǎng)格矢高面的近軸光焦度。

網(wǎng)格的尺寸只受限于可用內(nèi)存的大小。每個網(wǎng)格點需要4個8比特的雙精度數(shù)據(jù)和1個1比特值的存儲空間。一個255x255點陣的網(wǎng)格文件大約需要2Mb的內(nèi)存。

雙三次樣條插值算法平滑至三階導(dǎo)，它得到的結(jié)果在格點上有精1確值且不需要很大的網(wǎng)格文件就能得到很平滑的表面面型，但不能準確地模擬更高階的非球面。

網(wǎng)格矢高表面沒有定義網(wǎng)格邊界之外的部分時，光線追跡到網(wǎng)格表面之外將被視為光線丟失錯誤。在定義表面時，將表面區(qū)域定義為比光線照射部分尺寸更大的面可以有效避免這一錯誤。特別是不要將網(wǎng)格大小定義為與與光線照射區(qū)域相同的尺寸，否則光線追跡到網(wǎng)格表面邊緣時有可能不會再繼續(xù)追跡。

當使用網(wǎng)格矢高表面模擬表面極度彎曲的光學(xué)器件時，用戶最1好將基礎(chǔ)面定義為相近的面型，再在此基礎(chǔ)上定義相對矢高，而不是直接用網(wǎng)格矢高面定義整個面型。

目前而言，Zemax OpticStudio無法直接對網(wǎng)格數(shù)據(jù)進行優(yōu)化或公差分析。