本實驗裝置由本公司與浙江大學共同研制。
鍍膜原理
真空濺射離子、電子飛速運動，放電離子飛速轟擊機臺靶面，濺擊大量(銀、銅等)介質(zhì)，原子逐步沉積到基片襯底表面成膜。
主要實驗內(nèi)容
☆不同金屬材料薄膜制備;
☆利用空陰極放電制備了CU和Ag涂層研究空陰極對薄膜結(jié)構(gòu);
☆在光學材料上薄膜的制備及特性的測量的影響;
☆研究離子轟擊對膜性質(zhì)的影響。
儀真空系數(shù):旋片式真空泵，單相220V，抽速4L/s，極限真空:6×10-1Pa。
☆工作氣壓:10~200Pa;
☆工作電壓:0~1500V可調(diào)
☆工作電流0~200mA可測量
☆基臺加熱控溫系統(tǒng)室溫200度;
☆濺射鍍膜鐘罩直徑140mm高度150mm;
☆基臺可升降，可調(diào)范圍:10~50mm