高純金屬蒸發(fā)材料

      蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應(yīng)商，中諾新材可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。同時(shí)，這些材料亦廣泛應(yīng)用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領(lǐng)域。

部分產(chǎn)品如下：

材料純度(%)狀態(tài)

高純鋁(Al)99.999-99.9999顆粒 粉末 絲狀 片狀  

高純銅(Cu)99.99-99.9999顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鈦(Ti)99.5-99.999顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鎳(Ni)99.9-99.999顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉻(Cr)99.5-99.99顆粒 粉末

高純鈷(Co)99.95-99.99顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鐵(Fe)99.95-99.99顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鎂(Mg)99.95-99.99顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉿(Hf)99.95顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鋯(Zr)99.5-99.95顆粒 粉末 塊狀

高純銦(In)99.995-99.9999,顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉭(Ta)99.95-99.99顆粒 粉末 絲狀，片狀

高純鈮(Nb)99.95-99.99顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉛(Pb)99.99-99.999顆粒 粉末 片狀

高純硒(Se)99.99-99.9999顆粒 粉末

高純碲(Te)99.99-99.9999顆粒 粉末

高純鍺(Ge)99.9999顆粒 粉末 片狀

高純硅(Si)99.9999顆粒 粉末 片狀

高純錫(Sn)99.99-99.999顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鋅(Zn)99.99-99.9999顆粒 粉末 片狀

中諾新材擁有真空感應(yīng)熔煉爐、懸浮熔煉爐等多種專業(yè)生產(chǎn)設(shè)備，可提供各種常規(guī)高純金屬及合金。我公司采用先進(jìn)的鍛造及熱處理工藝，實(shí)現(xiàn)對(duì)靶材晶粒度的控制，并通過(guò)精密的機(jī)械加工工藝，制備出純度高、晶粒細(xì)小、組織均勻的高品質(zhì)靶材。

常規(guī)產(chǎn)品如下：

商品名稱純度(%)常規(guī)尺寸

高純鋁 靶材99.999  99.9995

高純鈦 靶材99.995

高純鈷 靶材99.95

高純鐵 靶材99.95  99.99

高純銦 靶材99.995

高純錫 靶材99.99

高純鋯 靶材99.5  99.9

高純鉿 靶材99.95

高純釩 靶材99.95

常規(guī)現(xiàn)貨靶材尺寸：φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

靶材常規(guī)厚度2-6mm  可定制加工不同尺寸的圓靶、方靶

中諾新材采用高純化合物粉末為原料，通過(guò)常壓燒結(jié)法、真空熱壓法以及熱等靜壓法等工藝成型，經(jīng)過(guò)精密的機(jī)械加工工藝，制得晶粒細(xì)小、組織均勻、致密度高的高品質(zhì)陶瓷化合物靶材，被廣泛應(yīng)用于太陽(yáng)能光伏、平面顯示、玻璃鍍膜等領(lǐng)域。

中諾新材可根據(jù)您的需求，為您定制不同化合物，不同比例的摻雜靶材。通過(guò)球磨制粉，共沉積制粉，真空熱壓燒結(jié)，常壓燒結(jié)等工藝，可保證靶材摻雜比例準(zhǔn)確，摻雜相單一，致密度高。