貴金屬靶材尺寸

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機(jī)加工制造而成。純度均可達(dá)到99.99%，主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、太陽能光伏、平面顯示、磁學(xué)等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機(jī)加工成靶，產(chǎn)品純度可達(dá)99.95%。主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、磁學(xué)等行業(yè)。

常規(guī)靶材有：

高純金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鉑 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鈀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純釕 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銠 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純銥 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常規(guī)厚度1-6mm

可定制加工的圓靶方靶，可提供靶材綁定服務(wù)。

掃描電鏡靶材

掃描電鏡（SEM）常用金、鉑、銀等靶材進(jìn)行導(dǎo)電處理，來降低樣品荷電現(xiàn)象，以提高圖像質(zhì)量，保持樣品真實的表面形貌特征。中諾新材可定制加工不同規(guī)格的電鏡用靶材，現(xiàn)貨產(chǎn)品尺寸如下：

高純金 靶材 99.99%φ58*0.12mm  φ57*0.1mm

高純鉑 靶材 99.99%φ57*0.1mm   φ58*0.12mm

高純銀 靶材 99.99%φ58*0.2mm   φ57*0.1mm

高純鈀 靶材 99.99%       φ57*0.1mm  φ58*0.2mm

高純鐵 靶材 99.99%φ57*0.1mm   φ58*0.12mm

高純鉬 靶材 99.99%φ58*0.2mm

高純銅 靶材 99.99%       φ57*0.1mm   φ58*0.2mm

產(chǎn)品純度高，價格公道，發(fā)貨及時。

分析檢測設(shè)備5

中諾新材分析檢測設(shè)備——ICP-AES 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀                      

  icp-aes分析儀由于采用了計算機(jī)技術(shù)，儀器的智能化、屏幕顯示的圖和文及數(shù)據(jù)的采集、處理等都達(dá)到了目前國內(nèi)先進(jìn)水平，是諸多行業(yè)理想的分析儀器。具有分析速度快，測試范圍廣、基體效應(yīng)小、分析動態(tài)范圍?。üぷ髑€的直線范圍可達(dá)4-5個數(shù)量級）等優(yōu)點。該儀器的物境倍數(shù)：5X10X20X40X，目鏡倍數(shù)：10X，可擴(kuò)展性：可配圖像分析系統(tǒng)(數(shù)碼相機(jī)、攝像頭、圖像分析軟件，采用TCI金相圖像分析系統(tǒng)V2。主要用于微量元素的分析，可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅、磷、硫等少量的非金屬，共72種。廣泛地應(yīng)用于質(zhì)量控制的元素分析，超微量元素的檢測