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電感器用符號L表示，它的基本單位是亨利（H），常用毫亨（mH）為單位。它經(jīng)常和電容器一起工作，構成LC濾波器、LC振蕩器等。另外，人們還利用電感的特性，制造了阻流圈、變壓器、繼電器等。組合電路集成電路是一種采用特殊工藝，將晶體管、電阻、電容等元件集成在硅基片上而形成的具有一定功能的器件，英文為縮寫為IC，也俗稱芯片。
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“無廠半導體公司－晶圓代工模式”的概念是由Xilinx的伯尼·馮德施密特（BernieV.Vonderschmitt）和C&T的戈登·A.坎貝爾（GordonA.Campbell）所提出。好處很明顯了，負擔很輕，自己只管設計就行了，不用耗費巨資去興建晶圓廠、開發(fā)新工藝，但壞處同樣很突出：你設計出來了，能否造出來、即便造出來又是個什么樣子你就無法做主了，得看代工伙伴的能耐。這方面的教訓當然很多：臺積電40/28nm兩代工藝都很不成熟，產(chǎn)能也是遲遲上不來，讓整個行業(yè)為之拖累。GlobalFoundries32nm工藝沒有達到AMD的預期水平，代FX/APU處理器的頻率和電壓就跟設計得差很多，28nm工藝吹了那么久直到現(xiàn)在才剛剛上路，迫使AMD一度放棄了整整一代的低功耗APU，不得不重新設計再去找臺積電。
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光刻機堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花，其制造難度非常大，現(xiàn)在ASML的的EUV極紫外線光刻機已經(jīng)能夠制造5nm制程的芯片了，單臺光刻機的售價已經(jīng)超過了1億美元，中國完全自主生產(chǎn)的光刻機目前只能達到90nm制程，差了一大截。光刻機的研制到底難在哪？光刻機涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、微環(huán)境控制等多項先進技術，是所有半導體制造設備中技術含量的設備。ASML為能夠在整個設備的不同部位同時獲得先進的技術，ASML的光刻機中超過90%的零件都是向外采購的，ASML在技術研發(fā)方面匯聚了世界前沿的科技，比如德國的機械工藝、德國的蔡司鏡頭、美國的光源和計量設備等，可以說ASML的光刻機是“集人類智慧大成的產(chǎn)物”。國際廠商：ASML阿斯麥爾（荷蘭）中國廠商：SMEE上海微電子