寬幅等離子火焰處理機(jī)低溫等離子體在線連續(xù)處理廠家直銷：誠峰智造

全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-XN

名稱（Name）

全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)

型號（Model）

CRF-APO-500W-XN

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz

等離子功率（Plasma power）

10KW（Max）/40KHz（Option）

有效處理寬幅（Processing width）

120mm-1200mm（Option）

有效處理高度（Processing   height）

3mm~8mm（Max）

處理速度（Processing speed）

0-8m/min

工作氣體（Gas）

N2/N2+CDA

產(chǎn)品特點(diǎn)： 內(nèi)置式冷卻系統(tǒng)，提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能；

靈活On-Line安裝方式，電子和離子的能量可達(dá)10eV以上，

材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

應(yīng)用范圍：應(yīng)用于FPC＆PCB表面處理，復(fù)合型材料，玻璃，ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理。

等離子清洗機(jī)的清洗工作原理：

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基);離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面.以達(dá)到清洗目的。 

主要是要應(yīng)用于實驗、科研 、醫(yī)學(xué)及小規(guī)模的生產(chǎn)領(lǐng)域。特點(diǎn)：成本低，整機(jī)機(jī)械、電氣結(jié)構(gòu)簡單、實用，易維護(hù)?？刂品绞剑菏謩踊蛘咦詣涌刂颇Ｊ剑酶骱唵卧骷那擅罱M合成自動控制體系，各參數(shù)調(diào)整好后，一鍵完成整個清洗工藝。 

1.電源功率、清洗時間、氣體流量、凈化真空度等參數(shù)可設(shè)置。 

2.射頻電源(核心器件采用美國進(jìn)口)◎氣體質(zhì)量流量計采用美國進(jìn)口，由模擬量輸入輸出，量程為0-200sccm可在量程范圍內(nèi)無級調(diào)節(jié)、針閥等控制工藝氣體流量。 

3.清洗完成有提示音◎反射功率過大報警◎工藝氣體耗盡報警◎泵熱過載報警◎反應(yīng)倉泄露報警◎電極采用高通量等離子結(jié)構(gòu)，牢固可靠易拆卸。 

4.反應(yīng)倉為矩形不銹鋼腔體，水平電極放置，間距可調(diào)?！蛘婵毡貌捎秒p腔式旋片泵，極限真空度可達(dá)2Pa以下，一般采用外置。 

等離子清洗機(jī)特色鮮明的處理腔體形狀和電極結(jié)構(gòu)可以滿足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。