北華諾恒宇光能科技有限公司，生產(chǎn)定制各種：點矩陣掩模版,密集孔圓點矩陣mask,密集孔圓點矩陣掩模板,密集孔圓點矩陣掩膜板,密集孔指狀梳狀微間距掩膜版,密集孔指狀梳狀微間距掩模版,密集孔指狀梳狀微間距mask,密集孔指狀梳狀微間距掩模板,密集孔指狀梳狀微間距掩膜板,密集孔梳形掩膜版,密集孔梳形掩模版,密集孔梳形mask,密集孔梳形掩模板,密集孔梳形掩膜板,密集孔蒸鍍掩膜版,密集孔蒸鍍掩模版,密集孔蒸鍍mask,密集孔蒸鍍掩模板,密集孔蒸鍍掩膜板,密集孔濺射叉指掩膜版,密集孔濺射叉指掩模版,密集孔濺射叉指mask,密集孔濺射叉指掩模板,密集孔濺射叉指掩膜板,密集孔叉指電極掩膜版,密集孔叉指電極掩模版,密集孔叉指電極mask,密集孔叉指電極掩模板,密集孔叉指電極掩膜板,密集孔鍍膜掩膜版,密集孔鍍膜掩模版,密集孔鍍膜mask,密集孔鍍膜掩模板,密集孔鍍膜掩膜板,密集孔實驗用掩膜版,密集孔實驗用掩模版,密集孔實驗用mask,密集孔實驗用掩模板,密集孔實驗用掩膜板,
產(chǎn)品價格評估:以材料材質(zhì)、產(chǎn)品要求的材料厚度、孔徑管控的精度要求，以及量產(chǎn)數(shù)量綜合評估。理想的方式是提供工程圖給到我們，簡潔明了，可以及時回復(fù)相關(guān)評估。

掩膜版(Photomask),又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等,是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版, 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形,

我公司是一家高投入、高起點的私營企業(yè)，工廠成立于2002年，地處于北京豐臺區(qū)南三環(huán)玉泉營，先后在北京昌平、天津濱海新區(qū)，建立分公司。交利，各項配套十分完善。
公司目前的業(yè)務(wù)方向定位于的精密金屬零件加工市場，目標(biāo)是成為中國的精密金屬零件供應(yīng)商。為工業(yè)向國際技術(shù)推進(jìn)而供獻(xiàn)自己的力量!
公司堅持在深化管理的技術(shù)改革中發(fā)展、以：“客戶至上、以品質(zhì)至勝、持續(xù)改進(jìn)、追求”為方針，不斷的引進(jìn)，推廣新的管理與生產(chǎn)技術(shù)。
公司以：“技術(shù)、品質(zhì)、反應(yīng)、交貨。成本”為理念。為客戶提供設(shè)計、制作，產(chǎn)品加工過程等全方位服務(wù)，限度的讓客戶滿意，與客戶攜手共進(jìn)，共創(chuàng)輝煌。
加工能力
小加工厚度：0.02
小加工寬度：0.01

華諾普銳斯公司是一家集從事金屬精密加工、生產(chǎn)及銷售制造商！公司專注于生產(chǎn)精密五金、IT產(chǎn)品配件、打印機配件、汽車配件、電器配件及工藝品產(chǎn)品的加工，公司產(chǎn)品取得了客戶的一致認(rèn)可, 如:聯(lián)想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認(rèn)可。
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光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統(tǒng)）等。
華諾激光 掩膜板個性定制加工事業(yè)部，將竭誠為您服務(wù)。