磁控濺射卷繞真空鍍膜設備與蒸發(fā)磁控濺射卷繞鍍膜設備相比，生產效率較低、設備成本高，這是由鍍膜原理所決定的。但磁控濺射具有鍍膜溫度低、可任意位置安放多個靶連續(xù)鍍多層膜、鍍膜材料適應范圍寬、膜層厚度可控、細膩、均勻、附著牢固等優(yōu)點。