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SWAN分析儀PH電極A-87.110.200
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SWAN分析儀PH電極A-87.110.200
高純水
根據(jù)所需的水質(zhì),超純水處理廠通常還具有脫氣、微濾、超濾、紫外線照射、消毒/衛(wèi)生過程。因此,需要測量污染物水平的儀器,例如:電阻率/電導(dǎo)率、(溶解)氧、濁度、氧化還原 (ORP)、pH、總有機(jī)碳 [TOC] 和特定離子的專業(yè)測量。
氯、臭氧、二氧化氯
氯化、臭氧化和二氧化氯 (ClO 2 ) 是對超純水和處理系統(tǒng)進(jìn)行消毒和消毒的常用有效技術(shù)。溶解的氯,臭氧和C10的測量2個(gè)濃度高純度的處理過程的主要部分,以保證足夠的處理水平。
電導(dǎo)率
在純水系統(tǒng)中,電解電導(dǎo)率或電阻率測量是離子污染最常見的指標(biāo)。
當(dāng)使用采樣管線進(jìn)行測量時(shí),超純水很容易被大氣中的微量二氧化碳通過微小泄漏或通過薄壁聚合物管擴(kuò)散而受到污染。二氧化碳在水中形成導(dǎo)電碳酸。因此,電導(dǎo)探頭通常永久地直接插入主超純水系統(tǒng)管道中,以提供對污染的實(shí)時(shí)連續(xù)監(jiān)測。這些探頭包含電導(dǎo)率和溫度傳感器,可以準(zhǔn)確補(bǔ)償溫度對純水電導(dǎo)率的巨大影響。
SWAN分析儀PH電極A-87.110.200
氧氣(溶解的)
先進(jìn)的微電子制造工藝要求超純沖洗水中的溶解氧 (DO) 濃度低至個(gè)位數(shù)至 10 ppb,以防止晶片薄膜和層氧化。發(fā)電廠水和蒸汽中的溶解氧必須控制在 ppb 級以最大程度地減少腐蝕。
漂洗水中的雜質(zhì),如高溶解氧含量、有機(jī)污染物和氣泡會導(dǎo)致缺陷。控制晶片表面上的氧化物形成是減少殘留溶解氧水平的原因之一。隨著芯片線寬不斷減小,水的質(zhì)量和溶解氧含量變得更加關(guān)鍵。
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酸堿度
許多水處理應(yīng)用中經(jīng)常使用高純水,以避免水雜質(zhì)可能造成的污染。測量這種水的 pH 值具有挑戰(zhàn)性,需要專門的設(shè)備。
由于各種原因,高純水中的 pH 測量具有挑戰(zhàn)性。純水的低電導(dǎo)率加上易受污染、參比電極的可變性和額外的溫度影響,使這成為一項(xiàng)特別具有挑戰(zhàn)性的測量??朔@些障礙需要徹底了解潛在問題及其系統(tǒng)解決方案。
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氧化還原 (ORP)
氧化還原或 ORP(氧化還原電位)測量用于指示水中氧化或還原條件的存在。在純水處理中,ORP 通常用于確保在可能被氧化損壞的膜或去離子樹脂之前去除氯或其他氧化劑。
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二氧化硅
在高純水處理系統(tǒng)中,如果在生產(chǎn)過程中出現(xiàn)任何故障,二氧化硅含量通常首先增加。
高純水系統(tǒng)通常測量痕量二氧化硅,因?yàn)樗俏廴疚锏目煽恐饕笜?biāo)。二氧化硅是地球上最豐富的礦物質(zhì)之一,存在于所有水源中。在芯片制造行業(yè),微量二氧化硅有可能在 UPW 干燥時(shí)保留在微芯片的晶圓上,這會導(dǎo)致產(chǎn)量的顯著損失.
SWAN分析儀PH電極A-87.110.200
A-75.200.000
A-81.420.020 AMI 選項(xiàng) Profibus 接口
A-81.420.042 AMI 選項(xiàng) USB 接口,V2
A-81.420.042 AMI 選項(xiàng) USB 接口,PN:A-81.420.0 42,用于 SWAN 鈉分析儀備件
A-81.420.050 第三個(gè)信號輸出接口
A-82.213.900 管匯 COPRA
A-82.214.030 帶 3 個(gè)通道的泵模塊 PeriClip
PeriClip 3CH-5R
A-82.220.900 COPRA 泵的壓力棒
A-82.250.100 用于肼監(jiān)測器的擴(kuò)散管
A-82.819.010 MSH過濾器
A-82.411.000 Pumpe Luft Soditrace
A-82.411.010 AMI 鈉 A 泵(V 1 -C 或更高)
A-82.511.010 Magnetventil 3/2-Weg 12V
A-82.521.201 帶流量的流量控制器
A-82.519.020 電磁閥修理包
A-82.519.030 Magnetventil ohne Spule
A-82.519.040 磁閥渦輪軌道
A-82.541.010 Kanalumschaltventil,版本 2,6-Wege Ventil
A-82.542.000 VENTIL UMSCHALT AMI
A-82.542.010 6 通閥模塊完成,AMI
A-82.584.001 帶壓力計(jì)的 4 通道背壓調(diào)節(jié)器
A-82.611.060/ 樣本音序器
A-82.811.020 試劑過濾器,4 個(gè)。
A-82.811.021 FILTER Einsatz für Reag.filter 12PCS
A-82.812.010 備用過濾器容器 V2
A-82.841.030 陽離子交換劑-瓶
A-82.841.031 陽離子交換劑——瓶;2 升,滿
A-82.841.035 陽離子交換劑 - 樹脂,1 0 升,無瓶
A-82.849.010 一套備用過濾器 CATCON
A-82.880.010 過濾器
82.930.020
A-82.931.040 容器安全通道 Silica
A-82.931.060 試劑容器 2.5l 帶蓋
A-82.939.010 Dichtungsatz Flasche REAG
A-83.151.210 浸入式組裝 UNIDI P
A-83.191.180 UNIDIP 的擴(kuò)展,PVC,1000mm
A-83.191.190 UNIDIP, PVC, 500mm 的擴(kuò)展
A-83.228.027 Durchflusszelle B-Flow IS1000
A-83.228.123 B-FLOW SS316L L70 3/4"NPT
A-83.228.133 B-FLOW SS316L L130
A-83.228.128 Durchflusszelle B-Flow UP-CON mit 槽鎖
A-89.300.040 安裝套件(管夾 55 mm 帶支架)
A-83.228.329 Durchflusszelle B-Flow SS316L OTG
A-83.411.111
A-83.411.115 流通池 QV-Flow IS1000
A-83.416.330 Durchflusszelle M-Flow 10-3PG
A-83.416.610 M-Flow 10-3PG
A-83.423.105 QV-Flow PMMA Oxytrace
A-83.437.330 Durchflusszelle M-Flow PG
A-83.444.101 流通池 CATCON+ SL
A-83.444.105 CATCON+ SL 5M
A-83.555.050 流通池
A-83.555.070 流通池肼
A-83.555.090 流動池 AMI 硅膠
A-83.590.021 Hydrazin e 流通池備件套裝
A-83.590.040 Ersatzsteilset zu SOLO 鈉
A-83.590.041 備件套件 AMI 鈉 P
A-83.590.030 Trides flow c 清潔套裝
A-83.590.043 第二流 AMI 鈉 P/二氧化硅
A-83.590.200 備件套裝
A-83.591.030 流量控制閥針2
A-83.595.010 帶 Or 的較短溢流管
A-83.595.020 帶 O-ri 的更長溢流管
A-83.595.120 Mantelrohr mit O 形圈
A-83.595.190 帶有 Oring 的恒定頭管用于流通池
A-83.595.175 溢流管 650mm 帶 O 形圈
A-83.691.000 UV-REAKTOR LINETOC
A-83.910.100 BLINDSTOPFEN 3/4" SL SS
A-83.910.030 Swansensor Oxytrace SC 安裝套件
A-85.112.500 200ml,不再提供,由 A-85.112.300 代替
A-85.112.300 校準(zhǔn)溶液 pH 4 40ml
A-85.113.500 校準(zhǔn)溶液 pH 7 200ml
A-85.114.500 校準(zhǔn)溶液 pH 9 200ml
A-85.121.300 氧化還原校準(zhǔn)溶液 475mV, 40ml
A-85.121.500 氧化還原校準(zhǔn)溶液 475mV, 200ml
A-85.141.400 鈉標(biāo)準(zhǔn)溶液
A-85.142.400 Silica-Standard-L?sung 100 ppm,F(xiàn)lasche mit 100 ml
A-85.151.010 驗(yàn)證套件“LOW” VERIFICATION KIT TURBI LOW
A-85.151.060 文章 VERI-KIT TUR BIWELL 7027 LOW
A-85.151.100 驗(yàn)證套件 AMI 光度計(jì),短
A-85.151.110 驗(yàn)證套件 TURBI LOW