光刻掩膜板 shadow mask 狹縫片 生產加工 誤差小精度高—華諾激光
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光刻掩膜板 shadow mask 狹縫片 生產加工 誤差小精度高—華諾激光
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品牌 華諾激光
重復精度 ±20μm
最小切割線寬 15μm
劃線速度 200mm/s
切割厚度 ≤2mm
加工幅面 300*500mm
聚焦光斑 2-20μm
可切割材質 金屬、玻璃、硅片、復合材料、金屬薄膜
激光設備 紅外、紫外、綠光
波長 納秒、皮秒
商品介紹

光刻掩膜板 shadow mask 狹縫片 生產加工 誤差小精度高—華諾激光

華諾激光是一家集專業(yè)從事金屬精密加工、生產及銷售制造商!公司專注于生產精密五金、IT產品配件、打印機配件、汽車配件、電器配件及工藝品產品的加工,公司產品取得了客戶的一致認可, 如:聯(lián)想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認可。


專注于生產精密五金、IT產品配件、打印機配件、汽車配件、電器配件及工藝品產品的加工,公司產品取得了客戶的一致認可, 如:聯(lián)想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認可。
光學掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。掩膜版應用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機電系統(tǒng))等。

光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構,再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成。其圖形結構可通過制版工藝加工獲得,常用加工設備為直寫式光刻設備,如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。
掩膜版應用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機電系統(tǒng))等。


華諾激光在北京 天津均有辦公地點
天津公司位于天津西青區(qū)海泰發(fā)展二路
北京公司位于豐臺區(qū)南三環(huán)玉泉營
華諾普銳斯光能科技有限公司,曹經理 期待你的來電,我們將竭誠為您服務!!
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公司名稱 北京華諾恒宇光能科技有限公司
聯(lián)系賣家 張經理 (QQ:857705609)
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地址 北京市
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