

螣芯科技
主營(yíng)產(chǎn)品: 半導(dǎo)體前道, 后道, 檢測(cè)設(shè)備
國(guó)產(chǎn)高精度單面雙面光刻機(jī)-紫外光刻機(jī)D8-螣芯科技
價(jià)格
訂貨量(臺(tái))
¥260000.00
≥1
店鋪主推品 熱銷(xiāo)潛力款
専將専尃尃尊尉将射專尃
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螣芯科技
店齡4年
企業(yè)認(rèn)證
聯(lián)系人
婁先生 銷(xiāo)售總監(jiān)
聯(lián)系電話
専將専尃尃尊尉将射專尃
經(jīng)營(yíng)模式
其他
所在地區(qū)
上海市青浦區(qū)
主營(yíng)產(chǎn)品
一、主要用途: 本設(shè)備廣泛應(yīng)用于進(jìn)行批量生產(chǎn)的各大、中、小型企業(yè),它主要用于中小規(guī)模集 成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn),找平力 小、使本機(jī)不僅適合各型基片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝 光以及非圓形基片和小型基片的曝光。
二、 主要性能指標(biāo) 1、曝光類(lèi)型:?jiǎn)蚊?,接觸式;
2、曝光面積:110×110mm;
3、曝光照度不均勻性:≤±3%;
4、曝光強(qiáng)度:0~30mw/cm2可調(diào);
5、紫外光束角:≤3?;
6、紫外光中心波長(zhǎng):365nm(也可以配專(zhuān)用曝光頭實(shí)現(xiàn) g 線、h 線、I 線的組合);
7、紫外光源壽命:≥2 萬(wàn)小時(shí);
8、曝光分辨率:1μm(正膠,膠厚 1.5μm)
9、曝光模式:可選擇一次曝光或套刻曝光;
10、顯微鏡掃描范圍:X: ±15mm Y: ±15mm;
11、對(duì)準(zhǔn)范圍:X、Y±3mm;Q 粗調(diào)±15°,細(xì)調(diào)±3°;
12、套刻精度:1μm;
13、分離量;0~50μm 可調(diào);
14、接觸-分離漂移:≤2μm;
15、曝光方式:密著曝光,可實(shí)現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光;
16、找平方式:三點(diǎn)式自動(dòng)找平;
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