OSAKA分子泵大阪分子泵TGkine3800M-R / TGkine4200M-R
OSAKA分子泵大阪分子泵TGkine3800M-R / TGkine4200M-R
OSAKA分子泵大阪分子泵TGkine3800M-R / TGkine4200M-R
OSAKA分子泵大阪分子泵TGkine3800M-R / TGkine4200M-R
OSAKA分子泵大阪分子泵TGkine3800M-R / TGkine4200M-R

OSAKA分子泵大阪分子泵TGkine3800M-R/TGkine4200M-R

價格

訂貨量(臺)

¥333333.00

≥1

聯(lián)系人 魏經(jīng)理

䝒䝕䝔䝒䝕䝑䝔䝖䝐䝘䝔

發(fā)貨地 上海市閔行區(qū)
進入商鋪
掃碼查看

掃碼查看

手機掃碼 快速查看

在線客服

商品參數(shù)
|
商品介紹
|
聯(lián)系方式
品牌 OSAKA大阪真空
型號 TGkine3800M-R / TGkine4200M-R
重量 72KG
驅動方式 電動
輸送介質(zhì) 空氣
吸氣口法蘭 VG300 / ISO-B320/VG350
排氣口法蘭 KF40/KF50
排気速度N2 (L/s) 3600/4200
排気速度H2 (L/s) 2700
起動時間 ≦12min
停止時間 ≦14min
安裝方向 正立或倒立安裝
商品介紹

OSAKA分子泵 大阪分子泵

TGkine3800M-R / TGkine4200M-R

產(chǎn)品特點:

省電設計      
在真空泵本體中,可存儲設置參數(shù),運轉數(shù)據(jù)及異常歷史等。 
※即使在維護階段更換控制器,也可實現(xiàn)全數(shù)據(jù)轉移。      
支持多種通信接口規(guī)格 (兼容EtherCAT通信協(xié)定)      
適用于國際規(guī)格 CE/NRTL/SEMI-S2

產(chǎn)品應用:
 半導體制造設備
FPD制造設備
太陽能電池制造設備
玻璃/鏡片等光學部件加工
鍍膜工藝
加速器/宇宙環(huán)境模擬器
技術參數(shù):
型號※1
TGkine3800M-R
TGkine4200M-R
吸氣口法蘭
VG300 / ISO-B320
VG350
排氣口法蘭※2
KF40 / KF50
排氣速度
N2 (L/s)
3600
4200
N2
(付帶金屬保護網(wǎng)) (L/s)
3400
4000
H2 (L/s)
2700
2700
zui大壓縮比
N2
>2×108
H2
2×103
zui大氣體流量※3、※4
N2 (sccm)
2800
Ar (sccm)
1300
起動時間
(min)
≦12
停止時間
(min)
≦14
到達壓力※5
(Pa)
<5×10-7
(Torr)
<3.8×10-9
zui大排氣口壓力※6
(Pa)
160
(Torr)
1.2
推薦前級泵
(L/min)
≧2000
安裝方向
正立或倒立安裝
質(zhì)量
(kg)
72 / 74
70

聯(lián)系方式
公司名稱 上海盈熾商貿(mào)有限公司
聯(lián)系賣家 魏經(jīng)理
手機 䝒䝕䝔䝒䝕䝑䝔䝖䝐䝘䝔
地址 上海市閔行區(qū)