HEM6000是一款可實現(xiàn)跨尺度大規(guī)模樣品成像的高速掃描電子顯微鏡。

采用高亮度大束流電子槍、高速電子偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)、高壓樣品臺減速、動態(tài)光軸、浸沒式電磁復合物鏡等技術(shù)，實現(xiàn)了超快的數(shù)據(jù)采集和成像速度，同時保證了納米級分辨率。

高速掃描電子顯微鏡面向應用場景的自動化操作流程設(shè)計，使得大面積的高分辨率圖像采集工作更高效、更智能。成像速度可達常規(guī)場發(fā)射掃描電鏡的5倍以上。

圖像采集速度

10 ns/pixel，2*100 M pixel/s

加速電壓

100 V~6 kV(減速模式) ； 6 kV~30 kV(非減速模式)

分辨率

1.3 nm@3 kV，SE ； 2.2 nm@1 kV，SE

視場大小

最大視場1*1 mm2，高分辨微畸變視場32*32 um2

樣品臺精度

重復定位精度：X ±0.6 um；Y ±0.3 um

高速掃描驅(qū)動器

駐點時間10 ns/pixel，

最快采集速度2*100 M pixel/s

電子過濾系統(tǒng)

SE/BSE信號自由切換，

MIX成像信號比例可調(diào)

全靜電高速偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)

可實現(xiàn)高分辨大場模式，

4 nm像素點最大視場達32*32 um2

樣品臺減速技術(shù)

降低入射電子落點電壓，

同時提高回收電子的收集效率

浸沒式電磁復合物鏡

物鏡磁場浸沒樣品

實現(xiàn)了低像差高分辨率

產(chǎn)品優(yōu)勢

高速自動化

全自動上下樣流程和采圖作業(yè)，綜合成像速度優(yōu)于常規(guī)場發(fā)射掃描電鏡的 5 倍

大場低畸變

跟隨掃描場動態(tài)變化的光軸，實現(xiàn)了更低的場邊緣畸變

低壓高分辨

樣品臺減速技術(shù)，實現(xiàn)低落點電壓，同時保證高分辨率

應用領(lǐng)域

半導體工業(yè)

生命科學

材料科學

地質(zhì)科學

應用案例

芯片（金屬層）/ 116x / BSE / 120 ns

芯片（器件層） / 2000x / BSE / 40 ns

芯片（金屬層）/ 1200x / BSE / 120 ns

芯片（器件層） / 1200x / BSE / 120 ns

生物切片 / 9500x / BSE / 120 ns

生物切片 / 10000x / BSE / 120 ns

生物切片 / 10000x / BSE / 120 ns

生物切片 / 116x / BSE / 120 ns

指標	HEM6000	常規(guī)場發(fā)射掃描電鏡
像素尺寸(單張)	8192*8192
像素點時間	120 ns（點/行/幀平均數(shù)：6/2/1）	800 ns
像素大小	16 nm
拍攝總面積	2 mm2
拍攝總時間	25分32秒	>140分