鋼研納克直讀光譜儀源于中國冶金行業(yè)的科研機(jī)構(gòu)“鋼鐵研究總院”，具有70年金屬分析檢測經(jīng)驗，金屬檢測標(biāo)準(zhǔn)制定者，直讀光譜儀國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T4336起草單位。鋼研納克擁有國內(nèi)強(qiáng)大的光譜儀產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)、售后服務(wù)力量，生產(chǎn)出了“國產(chǎn)好儀器”火花直讀光譜儀Lab Spark系列，世界首創(chuàng)的OPA金屬原位分析儀系列，直讀光譜儀的領(lǐng)跑者SparkCCD系列，系列產(chǎn)品獲得了廣大用戶的認(rèn)可，在中國累計銷售4000余臺，是中國金屬材料光譜分析領(lǐng)域的引領(lǐng)者。
鋼研納克直讀光譜儀系列產(chǎn)品多次獲得、省部級重大獎項，如國家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎二等獎（金屬原位分析儀）、兩次榮獲中國分析儀器獎項“BCEIA”金獎，山東省科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎一等獎，中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會自主創(chuàng)新金獎，國家知識產(chǎn)權(quán)局中國專利優(yōu)秀獎等獎項。
在以院士為首的研發(fā)團(tuán)隊帶領(lǐng)下，鋼研納克充分發(fā)揮技術(shù)研發(fā)優(yōu)勢，承擔(dān)了大量的國家重大課題，包括國家重點研發(fā)計劃項目、工程院咨詢項目、工信部工業(yè)轉(zhuǎn)型升級（中國制造2025）資金項目、國家自然基金項目等。同時，公司檢測技術(shù)及其產(chǎn)品多次獲得、省部級重大獎項，如國家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎二等獎、中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會自主創(chuàng)新金獎、國家知識產(chǎn)權(quán)局中國專利優(yōu)秀獎等。公司擁有專利130余項，擁有軟件著作權(quán)40余項。

干擾效應(yīng)。 干擾效應(yīng)也稱基體效應(yīng)，又稱共存元素、第三元素或伴隨物效應(yīng)，指的是在樣品中除了分析物外所有其他成分的影響，在光譜分析中能引起譜線的強(qiáng)度變化，導(dǎo)致分析結(jié)果產(chǎn)生一些誤差，這種干擾效應(yīng)是光譜分析中需要高度重視的一個問題。
分析試樣和標(biāo)樣影響。 在實際工作中，分析試樣和標(biāo)樣的冶煉過程和物理狀態(tài)存在一定的差異，所以導(dǎo)致校準(zhǔn)曲線經(jīng)常出現(xiàn)變化，一般情況下標(biāo)樣大多處于鍛造和軋制狀態(tài)，分析樣品大多處于澆鑄狀態(tài)，為有效防止試樣的冶金狀態(tài)變化影響檢測分析的結(jié)果，經(jīng)常使用的控制試樣要保證與分析試樣的冶金過程和物理狀態(tài)保持一致，對試樣的分析結(jié)果進(jìn)行精確的控制。
取樣方法影響。 取樣方法和對樣品的處理是光譜分析中影響分析精度和準(zhǔn)確度的重要而關(guān)鍵的因素。爐前分析時要對爐中鑄態(tài)的鋼樣采取快速紅切的方式進(jìn)行，如果檢測的樣品存在裂紋、雜質(zhì)和氣孔等問題，要重新進(jìn)行取樣檢測。對于低碳鋼材料要將其置入流水中進(jìn)行驟降溫處理，確保樣品組織結(jié)構(gòu)形成馬氏體和奧氏體，從而有效提升碳的分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。但要引起注意的是，對于高碳樣品進(jìn)行切割后，不能采取驟降溫的方式進(jìn)行處理，防止因為驟降溫引發(fā)裂縫發(fā)生。另外，對于鑄鐵和球墨鑄鐵的檢測和分析，要確保所檢測的樣品進(jìn)行白口化，并確保取樣的溫度、脫模時間、冷卻速度標(biāo)準(zhǔn)和統(tǒng)一。另外不同材料的檢測分析，要選擇適合的研磨工具，通常使用氧化鋁砂輪片進(jìn)行打磨，要注意打磨的顆粒處于中等狀態(tài)，不能太粗或太細(xì)。需要強(qiáng)調(diào)的是，試樣樣品的表面要打磨掉0.5至1.5毫米，除去樣品表面的氧化層，防止檢測結(jié)果的不準(zhǔn)確，氧化層對碳的分析結(jié)果的準(zhǔn)確性影響更大。
其它因素影響。 光電光譜檢測分析存在的誤差在所難免，要正確的認(rèn)識誤差，查找誤差存在的原因，采取有效的措施消除誤差。光譜檢測分析誤差除受上面幾種因素的影響外，還有以下幾種因素的影響：
1.人的因素： 操作者的質(zhì)量意識、責(zé)任意識、操作技術(shù)、水平高低、熟練程度等都會影響檢測的效果；
2.設(shè)備因素： 比如設(shè)備的狀態(tài)是否優(yōu)良、是否定期檢測和維護(hù)，光源性能穩(wěn)定性如何，氬氣供氣系統(tǒng)是否穩(wěn)定，試樣加工設(shè)備狀況是否正常、是否對加工設(shè)備進(jìn)行定期維護(hù)保養(yǎng)等，都會一定程度上影響檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性。
3.樣品試樣因素：比如待測試樣成分是否均勻，是否具有試樣的代表性，熱處理狀態(tài)和組織結(jié)構(gòu)狀態(tài)是否正常，標(biāo)準(zhǔn)試樣的成分和控制試樣的成分是否均勻，成分含量的標(biāo)準(zhǔn)值是否可靠，組織結(jié)構(gòu)是否統(tǒng)一、磨制樣品方法是否規(guī)范、效果是否有效等等，都是影響其檢測效果的關(guān)鍵因素。
4.分析方法因素：在分析方法上，分析曲線制作及擬合程度是否達(dá)標(biāo)，標(biāo)準(zhǔn)化過程及效果是否高效，控樣選擇是否規(guī)范，定值是否嚴(yán)格等等，都一定程度上影響著檢測效果。
5.環(huán)境因素：比如檢測所在分析室的溫度、濕度是否正常，受否受電磁干擾的影響，所處環(huán)境是否清潔衛(wèi)生，是否具備檢測要求的條件穩(wěn)定的操作環(huán)境，只有有了良好的檢測環(huán)境，才能為檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性提供保障。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求。
直讀光譜分析時，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動時，兩條線對的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對強(qiáng)度能保持不變。
如R表示強(qiáng)度比即 R=I1/I0
I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，表明I1和Io同時變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。
在光電直讀光譜分析時，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來解決。
光電法時，有時還用內(nèi)標(biāo)線來控制曝光量，稱為自動曝光，也就是樣品在曝光時，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時，自動截止曝光。此時分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因為R=I1/Io，而此時Io保持常數(shù))這個強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計時曝光法較為普遍。

隨著使用時間的推移，光室、光學(xué)器件會發(fā)生非常微小的形變，就是這些微小的形變都會引起光路細(xì)微的漂移，從而導(dǎo)致儀器測試精度和準(zhǔn)確度的改變，而且這個漂移會隨著時間的延遲表現(xiàn)的越來越明顯，如果要再次提高儀器的性能就需要人為的調(diào)整參數(shù)來修正這部分漂移，從而改善光譜儀的性能。