PlasmMS 300儀器使用環(huán)境和工作條件
1) 環(huán)境溫度：15℃～26℃，室內(nèi)氣溫變化每小時不超過3攝氏度，推薦室溫22℃；
2) 相對濕度：20～60%，無冷凝。濕度大的地區(qū)請配備除濕機；
3) Ar純度>99.996%，配備輸出量程為1-1.6Mpa或0-2.5Mpa的氧氣壓力表或氮氣壓力表，引入儀器的Ar壓力0.55Mpa~0.65Mpa，氬氣輸出端配6mm管適配器。儀器正常點火工作時用氣量15L/min；如果選配了He碰撞氣，請準備He減壓閥及氣瓶一個，減壓閥量程0-0.25Mpa或者0-0.4Mpa，減壓閥后端接4mm管適配器，He氣濃度>99.999%。
4) 供電電源：總供電三相五線(3相線，零線，地線)，額定電流40A以上；主機供電需要220V單相三線(火、零、地)供電，需要不帶漏電保護的兩線或3線的32A額定電流空氣開關(guān)一個。
5) 要求通風(fēng)速度~250m3/h，在儀器抽風(fēng)口處的氣流速度~8.8m/s (請注意，這不是風(fēng)機的抽速要求)，建議在抽風(fēng)口加節(jié)流閥，以便調(diào)整風(fēng)速。
6) 儀器應(yīng)當(dāng)置于無煙，無腐蝕性的環(huán)境下，無振動，不受陽光直射，遠離易燃易爆危險品；
7) 接地良好（接地電阻≤4Ω）。

ICP-MS的標準加入法
基體抑制是由基體帶來的物理干擾或化學(xué)干擾導(dǎo)致的。 使用標準加入法時： 1.首先將少量已知量的分析物添加到預(yù)制的分析樣品中；
2.然后對這些包含了標準加入物的樣品進行再測定，并繪制出濃度曲線；
3.該曲線在濃度軸(X 軸)上的截距即為樣品中分析物的濃度，
4.該曲線的實驗空白(即未加標樣品)CPS（即 Y 軸上的截距），即為樣品中分析物的 CPS；
5.標準加入法得到的圖形斜率即為該基體中樣品的分析靈敏度。
6.標準加入法避免了配置標準曲線，相當(dāng)于進行了完全的基體匹配。
7.后續(xù)樣品如果基體和該加標樣完全一致，則相當(dāng)于該方法也為后續(xù)未知樣品提供了基體 匹配，該加標曲線可以直接用于后續(xù)樣品的全定量測定。
基體效應(yīng)以外的干擾并不能通過標準加入法消除，但是可以通過空白扣減來消除，前提是 用來扣減的空白溶液中和樣品中含有的干擾水平是一致的。

PlasmaMS 300在環(huán)境領(lǐng)域的應(yīng)用
在環(huán)境應(yīng)用領(lǐng)域(監(jiān)控環(huán)境中微量和有毒元素)中，PLASMAMS 300是近年來增長快的應(yīng)用技術(shù) 手段。 該應(yīng)用的關(guān)鍵是：根據(jù)相關(guān)法規(guī)，必須對水、土壤、淤泥以及其他重要的環(huán)境物質(zhì)中的一 系列元素進行檢測，并且這些元素含量都在接近ppb級別。
在環(huán)境行業(yè)應(yīng)用中，的挑戰(zhàn)是：用同樣的分析方法來分析不同基體的樣品。在這種情 況下，是在用PLASMAMS 300檢測之前對樣品基體進行分離。
分離技術(shù)近幾年在環(huán)境樣品分析中運用很多。具體方法就是：將iCAP Q與可以分離目 標元素氧化物的附件(一般為色譜，例如LC或GC)偶聯(lián)。
應(yīng)用領(lǐng)域：
自來水檢測和水污染監(jiān)測 廢水中有毒元素和低水平錒系元素測定
環(huán)境污染物中同位素識別和定量

PlasmaMS 300在金屬工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用
痕量元素含量的變化對材料性能和生產(chǎn)控制有巨大影響。
PlasmaMS 300 PLASMAMS 300能在主要元素存在的條件下精確測定痕量元素，使用跳峰掃模式可以避 免主量元素、其氧化物、其雙電荷、其氫化物等的干擾，選擇同位素時應(yīng)注意避免基體離 子干擾。
應(yīng)用領(lǐng)域：
在研發(fā)和專業(yè)化學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域有較廣的范圍 高純陶瓷和化學(xué)品
金屬和玻璃 產(chǎn)品純度驗證