直讀光譜儀是當(dāng)今金屬材料成分分析的常規(guī)儀器之一，具有制樣簡(jiǎn)單、分析速度快、分析精度高等特點(diǎn)。以目前國(guó)內(nèi)外火花直讀光譜儀發(fā)展?fàn)顩r：目前生產(chǎn)光譜儀的生產(chǎn)廠商很多，從產(chǎn)品應(yīng)用情況看，可以分為三大類。類是便攜式光譜，用于現(xiàn)場(chǎng)材料牌號(hào)識(shí)別及材料分類；第二類是臺(tái)式光譜儀（ICP光譜、X熒光光譜）主要用于重金屬、微量元素的檢測(cè)；第三類就是大型直讀光譜儀，主要用于精確定量分析，對(duì)檢測(cè)精度要求很高的鑄造、冶金、交通軌道、電力等各行業(yè)。
根據(jù)中國(guó)光譜及能譜分析情報(bào)網(wǎng)的專家咨詢，同時(shí)結(jié)合很多公司未來(lái)可能上線的品種鋼冶煉項(xiàng)目，我們認(rèn)為應(yīng)選用一臺(tái)能夠適應(yīng)多基體、通道數(shù)較多（至少應(yīng)能允許安裝25個(gè)分析通道以上）的儀器才能適合要求。鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司生產(chǎn)的火花直讀光譜儀是優(yōu)質(zhì)的光譜儀 。

2014年5月16-22日，主題為“匯聚正能量，鑄造中國(guó)夢(mèng)”的中國(guó)鑄造節(jié)在北京舉行，該活動(dòng)由中國(guó)鑄造協(xié)會(huì)主辦，是中國(guó)鑄造行業(yè)內(nèi)規(guī)模、涵蓋范圍廣的一項(xiàng)重要活動(dòng)，在世界鑄造業(yè)中具有舉足輕重的地位。
中國(guó)鑄造節(jié)期間除行業(yè)年會(huì)、技術(shù)交流、展覽等活動(dòng)外，還會(huì)對(duì)近年來(lái)業(yè)內(nèi)具有突出貢獻(xiàn)的企業(yè)及優(yōu)秀的產(chǎn)品進(jìn)行表彰。鋼 研納克憑借多年來(lái)對(duì)于鑄造相關(guān)檢測(cè)技術(shù)與產(chǎn)品的研究成果以及鑄造客戶良好的口碑，榮獲“中國(guó)鑄造行業(yè)分行業(yè)排頭兵企業(yè)”，同時(shí)，全譜CCD光譜儀獲“全國(guó) 鑄造裝備創(chuàng)新獎(jiǎng)”。鋼研納克也是檢測(cè)及儀器廠家中獲得上述殊榮的企業(yè)

由中國(guó)72家鑄造協(xié)會(huì)/學(xué)會(huì)聯(lián)手打造的第十六屆中國(guó)國(guó)際鑄造博覽會(huì)The 16th China International Foundry Expo (Metal China)于2018年5月16-19日在北京順義新國(guó)展博覽中心成功舉辦。展商和觀眾來(lái)自中國(guó)、德國(guó)、美國(guó)、巴西、俄羅斯、日本、印度、西班牙等80多個(gè)國(guó)際和地區(qū)，展商數(shù)量超過(guò)1300家，觀眾超10萬(wàn)人次。本次展會(huì)得到同行業(yè)專家、學(xué)者及技術(shù)人員的高度評(píng)價(jià)。
鋼研納克在本博覽會(huì)上集中展示了SparkCCD 6000型全譜火花直讀光譜儀、CSONH氣體分析儀、Plasma 3000型雙向觀測(cè)全譜電感耦合等離子體光譜儀、力學(xué)試驗(yàn)機(jī)等分析儀器，吸引了國(guó)內(nèi)外眾多參展人員，受到專家、學(xué)者的一致好評(píng)。

鋼研納克SparkCCD7000多項(xiàng)技術(shù)創(chuàng)行業(yè)之
檢測(cè)器靈敏度行業(yè)
高分辨率 CCD 檢測(cè)器
像素?cái)?shù)：3648+46 全行業(yè)
像素尺寸：8μm 全行業(yè)小
精薄鍍膜，紫外波段檢出限更低，可做低含量 N
萬(wàn)級(jí)超凈環(huán)境下打造優(yōu)光學(xué)系統(tǒng)
帕邢 - 龍格結(jié)構(gòu)羅蘭光學(xué)系統(tǒng)，無(wú)像差，分辨率均勻
高發(fā)光全息光柵，光柵焦距 500mm, 刻線為 2700 條 /mm，全行業(yè)
線分辨率 0.7407nm/mm
像素分辨率 0.005926nm
譜線范圍：130-800nm（可分析 N、Li、 Na、K 等元素）
智能控制系統(tǒng)，再啟動(dòng)耗時(shí)行業(yè)
潮汐式?jīng)_洗方式，冷機(jī)（關(guān)機(jī) 12 小時(shí)）啟動(dòng)只需 30min，熱機(jī)啟動(dòng)時(shí)間 5min
智能判斷分析間隔時(shí)間，合理補(bǔ)充氬氣，降低氬氣消耗
60ml/min 超低待機(jī)流量，一瓶氬氣 24 小時(shí)待機(jī) 70 天
分片式曝光，痕量元素識(shí)別強(qiáng)度大幅提高，檢出限更低
一次激發(fā)，分片曝光，同時(shí)采集，同時(shí)回?cái)?shù)
獨(dú)立控制不同 CCD 的積分曝光時(shí)間
提升痕量元素的強(qiáng)度，降低儀器的檢出限
隨波段調(diào)節(jié)積分時(shí)間，提升儀器的 穩(wěn)定性