Labspark 1000 精密直讀火花光譜儀技術(shù)參數(shù)
廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗(yàn)，中心實(shí)驗(yàn)室成品 檢 驗(yàn)， 可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、Sn、Ag 等多種金屬及其合金樣品分析，穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、方便維護(hù)、抗干擾能力強(qiáng)。
Labspark 1000 技術(shù)優(yōu)勢
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料。
?獨(dú)特的恒溫式火花臺設(shè)計(jì)，環(huán)狀氬氣流方式，保證連續(xù)激發(fā)狀態(tài)下儀器的穩(wěn)定性，避免使用水冷帶來的不利影響。
?安全防護(hù)設(shè)備阻止不安全激發(fā)。
?銅基座火花臺，火花臺易于拆卸，便于清潔。
?帶有獨(dú)特配件，易于檢測多種形狀的分析對象（餅狀、棒狀、線狀）。
?一體式透鏡隔離閥，可防止因日常維護(hù)導(dǎo)致的光室污染影響強(qiáng)度下降，透鏡易于更換。
?放電室設(shè)計(jì)獨(dú)特，保證放電在條件下進(jìn)行。
?激發(fā)電極為鎢電極。
?帕邢 - 龍格架發(fā)，高發(fā)光全息光柵。
?光柵焦距 750mm，刻線為 2400 條 /mm，
?譜線范圍：120-800nm。
?色散率：一級色散率：0.55nm/mm， 二級色散率：0.275nm/mm。
?分辨率：優(yōu)于 0.01nm。
?整體出射狹縫調(diào)試方便、快捷、便于用戶增加更改通道，節(jié)約成本。
?光柵、光電倍增管等核心部件全部進(jìn)口。
?真空度由真空泵和真空控制設(shè)備控制。
?鑄鐵光室，熱膨脹系數(shù)低，保證真空度的要求。
?采用納克公司獨(dú)創(chuàng)的金屬原位分析儀的核心關(guān)鍵技術(shù) -- 單次放電采集解析技術(shù)（Single Discharge Analysis，SDA）。
?世界首創(chuàng)的多通道同步描跡提高儀器穩(wěn)定性。
?延時積分技術(shù)，國內(nèi)空白、，不同的通道采用不同的積分起始時間。
?內(nèi)部恒溫系統(tǒng)，不同的部位采用不同的恒溫條件，大大減少了外部環(huán)境變化對儀器的影響（控制精度 ±0.1℃）
?連續(xù)可調(diào)光源，對不同的材質(zhì)可以匹配不同的光源實(shí)現(xiàn)的分析結(jié)果。
?模塊化的電路設(shè)計(jì)，維修方便快捷，為遠(yuǎn)程診斷做好了準(zhǔn)備。
?軟件可調(diào)獨(dú)立高精度負(fù)高壓模塊，負(fù)高壓精度＜ 0.05%。
?負(fù)高壓可由分析程序控制，調(diào)高分析程序的分析精度，擴(kuò)展元素的分析范圍。
?實(shí)時監(jiān)控各通道負(fù)高壓、 光室溫度、火花臺溫度、真空度等重要參數(shù)，確保儀器長時間穩(wěn)定運(yùn)行。
?各光電倍增管負(fù)高壓獨(dú)立 供電，消除相互干擾，運(yùn)行更可靠。
?根據(jù)分析需要，可程序調(diào)整，拓寬反分析范圍。
?包括不同基體不同曲線的計(jì)算，全中文分析軟件，方便用戶操作，第三元素干擾校正，提高分析準(zhǔn)確度。
Labspark 1000技術(shù)特點(diǎn)
?原位單次放電采集的專利技術(shù)（SDA）有效提高分析精度
?單板式透鏡架，擦拭時大大降低對光室的污染
?基于 ARM9 的儀器狀態(tài)實(shí)時監(jiān)控系統(tǒng)
?固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性
?綠光背景燈，加快響應(yīng)速度，提高短期分析精度
?·銅火花臺底座，提高散熱性及堅(jiān)固性。
?·激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料。
?可變延時積分技術(shù)，大大降低背景干擾。
?高精度光電倍增管負(fù)高壓獨(dú)立供電連續(xù)可調(diào)技術(shù)，調(diào)整更精確，可程序調(diào)整，提高動態(tài)范圍。
?網(wǎng)口采集，通用性更強(qiáng)。
?真空光室由特殊材質(zhì)制作：極低的熱膨脹系數(shù)，受溫度波動影響小。
?全新光室結(jié)構(gòu)：可輕松檢測 Li、Na、K 等長波元素以及極短波長元素或干擾嚴(yán)重的元素，如 N、P、S、B、Sb 等。
?內(nèi)置疲勞背景燈：有效降低光電倍增管暗電流對信號
?收集的影響，提高信噪比，延長光電倍增管的使用壽命。
?自動描跡：全新設(shè)計(jì)的自動描跡系統(tǒng)，快速精準(zhǔn)，大大提高了儀器分析效率并降低了操作難度，提供自動與手動描跡切換功能。
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺：采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路，大大減少了氬氣的消耗量，減少了火花臺內(nèi)部的殘留金屬粉塵并且提高了儀器分析數(shù)據(jù)時的穩(wěn)定性。

鋼研納克SparkCCD 6000型火花發(fā)射光譜儀采用高分辨率線陣CCD（Charge-coupled Device）作為檢測器，實(shí)現(xiàn)全譜掃描，可以廣泛適用于多種基體金屬樣品的全元素成分分析。SparkCCD 6000型火花發(fā)射光譜儀優(yōu)點(diǎn)不再受光電倍增管排布的空間限制，可以任意增加分析元素，無需增加硬件，維護(hù)保養(yǎng)方便。光譜儀激發(fā)光源為激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料，原位單次放電采集技術(shù)有效提高分析精度，網(wǎng)口采集，通用性更強(qiáng)。
1.采用多個CCD對可用范圍內(nèi)的光譜譜線進(jìn)行全譜掃描
2.激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料
3.分析應(yīng)用覆蓋面廣泛，與傳統(tǒng)儀器相比，不受通道及基體限制
4.單板式透鏡架，擦拭時大大降低對光室的污染
5.基于ARM9的儀器狀態(tài)實(shí)時監(jiān)控系統(tǒng)
6.網(wǎng)口采集，通用性更強(qiáng)
7.固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性
8.銅火花臺底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能
想必大家對鋼研納克SparkCCD 6000型火花發(fā)射光譜儀有了更深刻的了解,想知道更多便攜式X熒光光譜儀，拉曼光譜儀,手持式X熒光光譜儀等不同類型光譜儀的資訊，敬請關(guān)注鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司。

2014年5月16-22日，主題為“匯聚正能量，鑄造中國夢”的中國鑄造節(jié)在北京舉行，該活動由中國鑄造協(xié)會主辦，是中國鑄造行業(yè)內(nèi)規(guī)模、涵蓋范圍廣的一項(xiàng)重要活動，在世界鑄造業(yè)中具有舉足輕重的地位。
中國鑄造節(jié)期間除行業(yè)年會、技術(shù)交流、展覽等活動外，還會對近年來業(yè)內(nèi)具有突出貢獻(xiàn)的企業(yè)及優(yōu)秀的產(chǎn)品進(jìn)行表彰。鋼 研納克憑借多年來對于鑄造相關(guān)檢測技術(shù)與產(chǎn)品的研究成果以及鑄造客戶良好的口碑，榮獲“中國鑄造行業(yè)分行業(yè)排頭兵企業(yè)”，同時，全譜CCD光譜儀獲“全國 鑄造裝備創(chuàng)新獎”。鋼研納克也是檢測及儀器廠家中獲得上述殊榮的企業(yè)

鋼研納克SparkCCD7000多項(xiàng)技術(shù)創(chuàng)行業(yè)之
檢測器靈敏度行業(yè)
高分辨率 CCD 檢測器
像素?cái)?shù)：3648+46 全行業(yè)
像素尺寸：8μm 全行業(yè)小
精薄鍍膜，紫外波段檢出限更低，可做低含量 N
萬級超凈環(huán)境下打造優(yōu)光學(xué)系統(tǒng)
帕邢 - 龍格結(jié)構(gòu)羅蘭光學(xué)系統(tǒng)，無像差，分辨率均勻
高發(fā)光全息光柵，光柵焦距 500mm, 刻線為 2700 條 /mm，全行業(yè)
線分辨率 0.7407nm/mm
像素分辨率 0.005926nm
譜線范圍：130-800nm（可分析 N、Li、 Na、K 等元素）
智能控制系統(tǒng)，再啟動耗時行業(yè)
潮汐式?jīng)_洗方式，冷機(jī)（關(guān)機(jī) 12 小時）啟動只需 30min，熱機(jī)啟動時間 5min
智能判斷分析間隔時間，合理補(bǔ)充氬氣，降低氬氣消耗
60ml/min 超低待機(jī)流量，一瓶氬氣 24 小時待機(jī) 70 天
分片式曝光，痕量元素識別強(qiáng)度大幅提高，檢出限更低
一次激發(fā)，分片曝光，同時采集，同時回?cái)?shù)
獨(dú)立控制不同 CCD 的積分曝光時間
提升痕量元素的強(qiáng)度，降低儀器的檢出限
隨波段調(diào)節(jié)積分時間，提升儀器的 穩(wěn)定性