Ulvac超高真空濺射系統(tǒng)

產(chǎn)品簡介

超高真空濺射系統(tǒng)主要用于濺射沉積Pd、Ti、Zr、Ta、Al、Cu、W、 NiFe、FeMn,、CoFeS等各種納米級單層或多層納米厚度膜（通常低于50nm)。

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設(shè)備特點

1.可做超薄薄膜

2.可做多層薄膜（有五個靶源）

主要技術(shù)指標

1.極限真空：1×10^-6 Pa.

2.膜厚: 幾nm～100nm

濺射速率：2-4nm/min

薄膜均勻性與重復性：3英寸襯底均勻性±2 % ，重復性±2%

3.靶材尺寸：2英寸；5個靶位；1RF源，2DC源

4.基片尺寸：3英寸基片與破片

公司主要研發(fā)、制造和銷售的檢測儀器有：電壓擊穿試驗儀、高壓漏電起痕試驗儀、耐電弧試驗儀、鐵電材料測試儀器、介電常數(shù)及介質(zhì)損耗測試儀、表面及體積電阻率測試儀、壓電材料測試儀器、熱電材料測試儀器、絕緣材料電性能檢測設(shè)備、高溫管式爐\反射爐\氣氛爐、高溫電性能測試設(shè)備、EST靜電檢測儀器、硅橡膠\絕緣子行業(yè)測試設(shè)備、PCB\三防漆電子材料測試、電氣薄膜電學檢測儀器、高低壓電氣材料測試設(shè)備、電線電纜行業(yè)電學測試設(shè)備、高分子材料電學測試儀器、熱分析儀器、電氣安規(guī)檢測儀器、半導體芯片類測試儀器等，可接定制儀器訂單。