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萊帕克帶您了解實(shí)驗(yàn)設(shè)備的出借和調(diào)撥需要注意的事項(xiàng)

由于教學(xué)和科研任務(wù)的變化或?qū)嶒?yàn)條件的更新，在用儀器設(shè)備可以借用或調(diào)撥。本程序按主管部門制定的相關(guān)規(guī)定執(zhí)行。實(shí)驗(yàn)設(shè)備的所有權(quán)應(yīng)改變，無論是有償還是無償。因此，必須進(jìn)行質(zhì)量評(píng)估，辦理資產(chǎn)轉(zhuǎn)讓和相應(yīng)的財(cái)務(wù)處理。暫時(shí)借給外國單位的實(shí)驗(yàn)設(shè)備所有權(quán)不變，但將辦理借用手續(xù)。應(yīng)告知其實(shí)驗(yàn)設(shè)備的完好情況和使用注意事項(xiàng)。退貨時(shí)，應(yīng)仔細(xì)檢查和接受，了解其用途，并將其登記在使用記錄中，以備將來參考。如果發(fā)現(xiàn)問題，應(yīng)該及時(shí)處理。到期后仍未歸還的，應(yīng)盡快辦理續(xù)借手續(xù)。

催化劑評(píng)價(jià)裝置與NaClO分解

在催化劑評(píng)價(jià)裝置的研究中，通過電子顯微技術(shù)不同放大倍數(shù)的掃描圖像可以觀察催化劑表面形貌、進(jìn)行顆粒度的測(cè)定和晶體結(jié)構(gòu)分析。

當(dāng)焙燒溫度200℃與400℃時(shí)，Ni2O3催化劑的SEM照片，可以了解焙燒溫度達(dá)到400℃時(shí)，鎳基催化劑的活性組分Ni2O3的晶粒尺寸較焙燒溫度200℃時(shí)明顯減小，且晶粒的分散度高，分散性較好，沒有出現(xiàn)明顯的團(tuán)聚現(xiàn)象。這與XRD的結(jié)果符合，說明焙燒溫度的提高確實(shí)有助于降低催化劑活性組分Ni2O3的晶粒尺寸，從而提高催化劑表面活性組分的分散度，這將有利于提高催化劑的活性。

化工實(shí)驗(yàn)設(shè)備

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催化劑評(píng)價(jià)裝置

萊帕克淺析篩板精餾實(shí)驗(yàn)裝置運(yùn)用

篩板精餾實(shí)驗(yàn)裝置作為主要用于傳質(zhì)過程的設(shè)備，首先必須使氣（汽）液兩相充分接觸，以獲得較高的傳質(zhì)效率．此外，為了滿足工業(yè)生產(chǎn)的需要，設(shè)備還得考慮下列各項(xiàng)傳質(zhì)效率．此外，為了滿足工業(yè)生產(chǎn)的需要，設(shè)備還得考慮下列各項(xiàng)要求：

（１）生產(chǎn)能力大．在較大的氣（汽）液流速下，仍不致發(fā)生大量的霧沫夾帶、攔液或液泛等破壞正常操作的現(xiàn)象．

（２）操作穩(wěn)定、彈性大．當(dāng)設(shè)備的氣（汽）液負(fù)荷量有較大的波動(dòng)時(shí)，仍能在較高的傳質(zhì)效率下進(jìn)行穩(wěn)定的操作．并且塔設(shè)備應(yīng)保證能長期連續(xù)操作．

（３）流體流動(dòng)的阻力小．即流體通過塔設(shè)備的壓力降?。@將大大節(jié)省生產(chǎn)中的動(dòng)力消耗，以及降低經(jīng)常操作費(fèi)用．對(duì)于減壓蒸餾操作，較大的壓力降還使系統(tǒng)無法維持必要的真空度．

（４）結(jié)構(gòu)簡單、材料耗用量小、制造和安裝容易．這可以減少基建過程中的投資費(fèi)用．

（５）耐腐蝕和不易堵塞，方便操作、調(diào)節(jié)和檢修．

事實(shí)上，對(duì)于現(xiàn)有的任何一種塔型，都不可能完全滿足上述所有要求，僅是在某些方面具有獨(dú)到之處．

化工實(shí)驗(yàn)設(shè)備

篩板精餾實(shí)驗(yàn)裝置