在實際工作中，由于試樣和標準樣品的冶金過程和某些物理狀態(tài)的差異，常常使工作曲線發(fā)生變化，通常標準樣品多為鍛造和軋制狀態(tài)，而日常分析為澆鑄狀態(tài)。為了避免試樣因冶金狀態(tài)變化給分析結(jié)果帶影響，常常應使用一個與分析試樣冶金狀態(tài)和物理狀態(tài)都一樣的控樣，來控制分析結(jié)果，控樣的元素含量應位于工作曲線含量范圍內(nèi)，并與分析試樣的含量越接近越好。同時，控制樣品的元素含量應當準確可靠，成份分布均勻，外觀無氣孔、砂眼、裂紋等物理缺陷。

Labspark 750T 精密直讀火花光譜儀技術(shù)參數(shù)
Labspark 750T 技術(shù)優(yōu)勢
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應各種不同材料。
?獨特的恒溫式火花臺設計，環(huán)狀氬氣流方式，保證連續(xù)激發(fā)狀態(tài)下儀器的穩(wěn)定性，避免使用水冷帶來的不利影響。
?安全防護設備阻止不安全激發(fā)。
?銅基座火花臺，火花臺易于拆卸，便于清潔。
?帶有獨特配件，易于檢測多種形狀的分析對象（餅狀、棒狀、線狀）。
?一體式透鏡隔離閥，可防止因日常維護導致的光室污染影響強度下降，透鏡易于更換。
?放電室設計獨特，保證放電在條件下進行。
?激發(fā)電極為鎢電極。
?帕邢 - 龍格架發(fā)，高發(fā)光全息光柵。
?光柵焦距 750mm，刻線為 2400 條 /mm，
?譜線范圍：120-800nm。
?色散率：一級色散率：0.55nm/mm， 二級色散率：0.275nm/mm。
?分辨率：優(yōu)于 0.01nm。
?整體出射狹縫調(diào)試方便、快捷、便于用戶增加更改通道，節(jié)約成本。
?光柵、光電倍增管等核心部件全部進口。
?真空度由真空泵和真空控制設備控制。
?鑄鐵光室，熱膨脹系數(shù)低，保證真空度的要求。
?采用納克公司獨創(chuàng)的金屬原位分析儀的核心關(guān)鍵技術(shù) -- 單次放電采集解析技術(shù)（Single Discharge Analysis，SDA）。
?世界首創(chuàng)的多通道同步描跡提高儀器穩(wěn)定性。
?延時積分技術(shù)，國內(nèi)空白、，不同的通道采用不同的積分起始時間。
?內(nèi)部恒溫系統(tǒng)，不同的部位采用不同的恒溫條件，大大減少了外部環(huán)境變化對儀器的影響（控制精度 ±0.1℃）
?連續(xù)可調(diào)光源，對不同的材質(zhì)可以匹配不同的光源實現(xiàn)的分析結(jié)果。
?模塊化的電路設計，維修方便快捷，為遠程診斷做好了準備。
?軟件可調(diào)獨立高精度負高壓模塊，負高壓精度＜ 0.05%。
?負高壓可由分析程序控制，調(diào)高分析程序的分析精度，擴展元素的分析范圍。
?實時監(jiān)控各通道負高壓、 光室溫度、火花臺溫度、真空度等重要參數(shù)，確保儀器長時間穩(wěn)定運行。
?各光電倍增管負高壓獨立 供電，消除相互干擾，運行更可靠。
?根據(jù)分析需要，可程序調(diào)整，拓寬反分析范圍。
?包括不同基體不同曲線的計算，全中文分析軟件，方便用戶操作，第三元素干擾校正，提高分析準確度。

光譜儀按照應用可分為：分子類光譜儀，原子類光譜儀
原子類光譜儀的按原理分為：原子發(fā)射光譜儀，原子吸收光譜儀，原子熒光光譜儀；
其中原子發(fā)射光譜儀又稱為光電直讀光譜儀；按照激發(fā)原理又分：火花直讀光譜儀和電弧直讀光譜儀；
根據(jù)光譜儀器的體積,光譜儀可以分為兩大類:便攜式光譜儀和臺式（立式）光譜儀。光譜儀器按照檢測器可分為:通道式光電倍增光PMT光譜儀和全譜CCD光譜儀。
直讀光譜儀常見的桌面和兩個垂直平面。直讀光譜儀是廣泛應用于鑄造、鋼鐵、金屬回收和精煉和軍事工業(yè)、航空、電力、化工、高校和商品檢驗、質(zhì)量控制等。

光譜儀采用了一個復雜而又敏感的光學系統(tǒng)。光譜儀的環(huán)境溫度，濕度，機械振動，以及大氣壓的變化，都會使譜線產(chǎn)生微小的變化而造成譜線的偏移。氣壓和濕度變化會改變介質(zhì)的折射率，從而使譜線發(fā)生偏移，濕度的提高不僅會使空氣的折射率增大，而且會對光學零件產(chǎn)生腐蝕作用，降底了儀器透光率，濕度一般應控制在55% -60% 以下。溫度對光柵的影響主要改變光柵常數(shù)，使角色散率發(fā)生變化，產(chǎn)生譜線漂移。這些變化會使光譜線不能完全對準相應的出射狹縫，從而影響分析結(jié)果。