Plasma 2000 技術(shù)特點
1. 優(yōu)異的光學(xué)系統(tǒng)
2. 固態(tài)高效射頻發(fā)生器，體積更加小巧
3. 流程自動化，狀態(tài)監(jiān)控及自動保護
4. 科研級檢測器，極高的紫外量子化效率
5. 強大分析譜線
6. 信息直觀豐富
7. 多窗口多方法
8. 編輯功能強大
9. 智能譜圖標(biāo)定
10. 智能干擾矯正

鋼研納克Plasma 1500 固態(tài)光源單道掃描ICP
進樣系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
炬管方向：垂直放置
炬管：可拆卸式或一體式炬管，中心管可選0.8mm、1.5mm、2.0mm（石英或陶瓷）
霧化器：同心霧化器或平行通道霧化器，外徑6mm,可選標(biāo)準(zhǔn)霧化器、高鹽霧化器、氫氟酸霧化器。
霧室：旋流霧化室，可選配雙筒型霧化室和耐HF霧化室。
蠕動泵：4通道12滾輪，轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)

鋼研納克Plasma1500 固態(tài)光源單道掃描ICP光譜儀
Plasma1500型電感耦合等離子發(fā)射光譜儀是鋼研納克研發(fā)的單道掃描型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀。在繼承鋼研納克的Plasma1000型單道掃描ICP-OES優(yōu)異性能的基礎(chǔ)上，結(jié)合國內(nèi)外單掃描型ICP-OES前沿技術(shù)，研發(fā)制造了新一代單掃描電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀。大面積高刻線密度平面全息光柵，Czerny-Turner 結(jié)構(gòu)光學(xué)系統(tǒng)，擁有通光量大，分辨率高的特點。雙光柵設(shè)計使得整個波長分布范圍內(nèi)均具有極高光譜分辨率。高效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的高精度運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。雙通道高靈敏PMT 檢測器，寬動態(tài)范圍信號處理技術(shù)，具有優(yōu)異的檢測能力。紫外光譜范圍內(nèi)自動切換使用紫外PMT。功能強大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。可廣泛應(yīng)用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗,數(shù)十項ICP檢測標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,重大科學(xué)儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應(yīng)用的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質(zhì)之選！