干擾效應。 干擾效應也稱基體效應，又稱共存元素、第三元素或伴隨物效應，指的是在樣品中除了分析物外所有其他成分的影響，在光譜分析中能引起譜線的強度變化，導致分析結果產(chǎn)生一些誤差，這種干擾效應是光譜分析中需要高度重視的一個問題。
分析試樣和標樣影響。 在實際工作中，分析試樣和標樣的冶煉過程和物理狀態(tài)存在一定的差異，所以導致校準曲線經(jīng)常出現(xiàn)變化，一般情況下標樣大多處于鍛造和軋制狀態(tài)，分析樣品大多處于澆鑄狀態(tài)，為有效防止試樣的冶金狀態(tài)變化影響檢測分析的結果，經(jīng)常使用的控制試樣要保證與分析試樣的冶金過程和物理狀態(tài)保持一致，對試樣的分析結果進行精確的控制。
取樣方法影響。 取樣方法和對樣品的處理是光譜分析中影響分析精度和準確度的重要而關鍵的因素。爐前分析時要對爐中鑄態(tài)的鋼樣采取快速紅切的方式進行，如果檢測的樣品存在裂紋、雜質(zhì)和氣孔等問題，要重新進行取樣檢測。對于低碳鋼材料要將其置入流水中進行驟降溫處理，確保樣品組織結構形成馬氏體和奧氏體，從而有效提升碳的分析結果的準確性。但要引起注意的是，對于高碳樣品進行切割后，不能采取驟降溫的方式進行處理，防止因為驟降溫引發(fā)裂縫發(fā)生。另外，對于鑄鐵和球墨鑄鐵的檢測和分析，要確保所檢測的樣品進行白口化，并確保取樣的溫度、脫模時間、冷卻速度標準和統(tǒng)一。另外不同材料的檢測分析，要選擇適合的研磨工具，通常使用氧化鋁砂輪片進行打磨，要注意打磨的顆粒處于中等狀態(tài)，不能太粗或太細。需要強調(diào)的是，試樣樣品的表面要打磨掉0.5至1.5毫米，除去樣品表面的氧化層，防止檢測結果的不準確，氧化層對碳的分析結果的準確性影響更大。
其它因素影響。 光電光譜檢測分析存在的誤差在所難免，要正確的認識誤差，查找誤差存在的原因，采取有效的措施消除誤差。光譜檢測分析誤差除受上面幾種因素的影響外，還有以下幾種因素的影響：
1.人的因素： 操作者的質(zhì)量意識、責任意識、操作技術、水平高低、熟練程度等都會影響檢測的效果；
2.設備因素： 比如設備的狀態(tài)是否優(yōu)良、是否定期檢測和維護，光源性能穩(wěn)定性如何，氬氣供氣系統(tǒng)是否穩(wěn)定，試樣加工設備狀況是否正常、是否對加工設備進行定期維護保養(yǎng)等，都會一定程度上影響檢測結果的準確性。
3.樣品試樣因素：比如待測試樣成分是否均勻，是否具有試樣的代表性，熱處理狀態(tài)和組織結構狀態(tài)是否正常，標準試樣的成分和控制試樣的成分是否均勻，成分含量的標準值是否可靠，組織結構是否統(tǒng)一、磨制樣品方法是否規(guī)范、效果是否有效等等，都是影響其檢測效果的關鍵因素。
4.分析方法因素：在分析方法上，分析曲線制作及擬合程度是否達標，標準化過程及效果是否高效，控樣選擇是否規(guī)范，定值是否嚴格等等，都一定程度上影響著檢測效果。
5.環(huán)境因素：比如檢測所在分析室的溫度、濕度是否正常，受否受電磁干擾的影響，所處環(huán)境是否清潔衛(wèi)生，是否具備檢測要求的條件穩(wěn)定的操作環(huán)境，只有有了良好的檢測環(huán)境，才能為檢測結果的準確性提供保障。

SparkCCD 6000 全 譜 火 花 直 讀 光 譜 儀 技 術 參 數(shù)
SparkCCD 6000全譜火花直讀光譜儀采用高分辨率線陣CCD（Charge-coupled Device）作為檢測器，實現(xiàn)全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統(tǒng)，儀器性能更穩(wěn)定，服務期限更長久。海量的譜線使分析不再受限，曲線分段跳轉(zhuǎn)，同一元素不同譜線間實現(xiàn)無縫銜接，拓展分析范圍第三元素干擾校正使元素分析更加準確，可以在用戶現(xiàn)場任意增加分析基體和分析元素而無需增加硬件，維護保養(yǎng)方便。能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應各種不同材料；網(wǎng)口采集傳輸，速度快，通用性更強。
應用領域
Spark 6000 可廣泛應用于冶金、鑄造、機械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè)，在汽車制造、航空航天、船舶、機電設備、工程機械、電子電工、教育、科研等領域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應用。
適用基體
可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀技術優(yōu)勢
?帕邢 - 龍格架法
?光柵焦距 500mm
?高發(fā)光全息光柵，刻線為 2700 條 /mm
?譜線范圍：130-640nm
?色散率： 一級色散率：0.74nm/mm；二級色散率：0.37nm/mm
?分辨率：優(yōu)于 0.01nm
?不限檢測通道
?檢測器由多塊 CCD 組成
?高分辨率 CCD 檢測器
?單片 CCD 3648 個像素
?單像素尺寸僅為 8μm
?分析樣品重可達 50kg
?安全防護設備阻止不安全激發(fā)
?全新設計的共軸火花臺，采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路，有效降 低氬氣的消耗量
?一體式透鏡隔離閥，易于更換，且可以避免由日常維護而引起的強度下降
?放電室設計獨特，保證放電在條件下進行
?Windows 環(huán)境下的系統(tǒng)監(jiān)控軟件，控制并顯示光室真空度，顯示火花臺、光室溫度。
?操作簡單快捷，便于維修及調(diào)試
?放電參數(shù)由密碼保護
?光源頻率能量等參數(shù)連續(xù)可調(diào)
?高能預火花技術，達 1000Hz
?網(wǎng)口數(shù)據(jù)采集方式，數(shù)據(jù)傳輸穩(wěn)定，對電腦的要求低
?多線程的數(shù)據(jù)采集方式，提高軟件的穩(wěn)定性，數(shù)據(jù)的可靠性
?采用全新的鑄造光室，熱膨脹系數(shù)極低，儀器的穩(wěn)定性高
?真空由真空泵和真空控制設備控制
?全新的真空泵隔離閥，穩(wěn)定可靠
?真空光學系統(tǒng)，免氬氣沖洗
?氬氣消耗量低，僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3，用戶日常使用成本低
?包括不同基體不同曲線的計算
?全中文分析軟件，方便用戶操作
?自主開發(fā)的爐料自動配比軟件，根據(jù)測試結果自動生成爐料配比方案
?多種通訊方式滿足不同用戶的需要，可將數(shù)據(jù)傳輸?shù)竭h程終端或打印機，進 行在線分析、遠程監(jiān)控、診斷與維修。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀儀器特點
?采用多個 CCD 對可用范圍內(nèi)的光譜譜線進行全譜掃描
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應各種不同材料
?分析應用覆蓋面廣泛，與傳統(tǒng)儀器相比，不受通道及基體限制
?單板式透鏡架，擦拭時大大降低對光室的污染
?網(wǎng)口 采集，通用性更強
?.真空泵隔離閥，提高長期運行穩(wěn)定性
?銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能
?氬氣消耗量低，僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3

直讀光譜實驗室安裝條件要達標。
①實驗室內(nèi)的環(huán)境溫度要控制在10-30℃，相對濕度控制在20%-80%，確保無腐蝕性氣體。
②氬氣的供給純度要達到99.999%以上，不純氬氣中雜質(zhì)影響激發(fā)效果，降低元素的光強值，分析結果出現(xiàn)偏差。
③輸入實驗室的電源要接在交流穩(wěn)壓器上，輸出電壓接到直讀光譜儀器上，電源電壓波動范圍控制在－5%～＋5%以內(nèi)。
做好樣品分析準備。 設備和PC電源電壓選擇開關要設置適當?shù)妮斎腚妷海^濾灌水量要在三分之一，氬氣壓力設置為0.5MPa。光譜儀打開后少穩(wěn)定一個小時。激發(fā)試樣看激發(fā)點是否正常，做程序修正，觀察數(shù)據(jù)穩(wěn)定性和準確性。根據(jù)情況決定是不是要做光譜校正和標準化。
正確進行樣品分析。
認真制備試樣 樣品切割和磨樣處理后，激發(fā)面能密封住激發(fā)孔，樣品表面清潔，無裂紋、砂眼、氣孔等缺陷，樣品和激發(fā)板不能漏氣。
激發(fā)樣品 樣品制備好后在激發(fā)臺激發(fā)3次，刪除異常點，留三組數(shù)據(jù)取平均值。
做好直讀光譜儀的維護保養(yǎng)。
要按時清潔儀器可見光透鏡和紫外光透鏡，定期檢查更換排氣瓶的水量，定期清潔空氣濾芯、更換濾芯。
定期清潔火花臺，樣品激發(fā)的過程產(chǎn)生的金屬蒸氣一部分附在火花臺上，久而久之大量粉末沉積，降低兩電極之間的絕緣性能，影響激發(fā)效果。

光譜分析的種類和分析的內(nèi)容
在日常生活中，可以見到各種不同的，如紅、黃、蘭、白色光。太陽光經(jīng)三棱鏡后，會產(chǎn)生紅、橙、黃、綠、青、蘭，紫排列的色帶，還有人們?nèi)庋鬯床灰姷墓馊缱贤饩€，紅外線，γ射線等。
從光譜分析的觀點重要的譜線波長是在100—12000*10-1nm之間，這個區(qū)間又分為幾個光譜范圍。
從廣義講，各種電磁輻射都屬于光譜，一般按其波長可分為：
γ射線 0.00005—0.14nm
x射線 0.01—10nm
微波波譜 0.3mm—lmm
而光譜區(qū)可分為：
真空紫外區(qū)10—200nm
近紫外區(qū)200～380nm
可見光譜區(qū) 380—780nm
近紅外光譜 780nm一3μm
遠紅外光譜 3—300μm
注：1米 (m)=103毫米 (mm)=106微米 (μm)
光電直讀光譜分析應用的元素波長，大部分在真空紫外區(qū)和近紫外區(qū)多。
我們通常所講到光譜僅指光學光譜而言，從物質(zhì)(固、液、氣)加熱或用光或用電激發(fā)射光譜時得到三種類型的光譜。線光譜是由氣體狀態(tài)下的原子或離子經(jīng)激發(fā)而得到的，通常呈現(xiàn)分立的線狀所以稱線光線，就其產(chǎn)生方式而言又可分為發(fā)射光譜(明線)和吸收光譜(暗線)兩種，因此光譜分析又分為發(fā)射光譜分析和原子吸收光譜分析。如果是原子激發(fā)產(chǎn)生的光譜，稱原子光譜，如果離子激發(fā)所產(chǎn)生的光譜稱離子光譜。帶狀光譜是原子結合成分子中發(fā)出的或兩個以上原子的集團發(fā)出的，通常呈帶狀分布，是分子光譜產(chǎn)生，如在光譜分析中采用炭電極，在高溫時，炭與空氣中氮化合生成氰帶(CN)分子，當氰分子在電弧中激發(fā)時產(chǎn)生的光譜，稱氰帶。連續(xù)光譜是從白熱的固體中發(fā)出的，是特定的狀態(tài)下原子分子中發(fā)出來的，所以連續(xù)光譜是無限數(shù)的線光譜或帶光譜體。
我們通常講的光譜分析，一般是指“原子發(fā)射光譜分析”，光電光譜分析中元素波長都是元素的原子光譜和離子光譜。
現(xiàn)在光電光譜儀主要分為兩大類。非真空型的光電光譜儀的工作波長范圍在近紫外區(qū)和可見光區(qū)。真空光電光譜儀工作波長擴展到遠真空紫外120．0nm，因而利用這個波段中氮、碳、磷、硫等譜線的靈敏度來分析鋼中的重要元素。