正負(fù)光刻膠公司 低溫光刻膠生產(chǎn)廠 Futurrex 正負(fù)光刻膠廠
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商品介紹
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縱橫比 4.5
報價方式 按實際訂單報價為準(zhǔn)
光刻膠型號 NR5-8000
膜厚 54μm
掩模尺寸 12μm
曝光能量 1100 mJ/cm22
聚焦補償 -15μm
耐溫 150度
產(chǎn)品編號 10429571
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營:光刻膠




負(fù)性光刻膠原理

又稱光致抗蝕劑,是一種由感光樹脂、增感劑(見光譜增料)和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

原理

光刻膠在接受一定波長的光或者射線時,會相應(yīng)的發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)或者激勵作用。光化學(xué)反應(yīng)中的光吸收是在化學(xué)鍵合中起作用的處于原子外層的電子由基態(tài)轉(zhuǎn)入激勵態(tài)時引起的。對于有機(jī)物,基態(tài)與激勵態(tài)的能量差為3~6eV,相當(dāng)于該能量差的光(即波長為0.2~0.4μm的光)被有機(jī)物強(qiáng)烈吸收,使在化學(xué)鍵合中起作用的電子轉(zhuǎn)入激勵態(tài)?;瘜W(xué)鍵合在受到這種激勵時,或者分離或者改變鍵合對象,發(fā)生化學(xué)變化。電子束、X射線及離子束(即被加速的粒子)注入物質(zhì)后,因與物質(zhì)具有的電子相互作用,能量逐漸消失。電子束失去的能量轉(zhuǎn)移到物質(zhì)的電子中,因此生成激勵狀態(tài)的電子或二次電子或離子。這些電子或離子均可誘發(fā)光刻膠的化學(xué)反應(yīng)。


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光刻膠市場空間

以下是賽米萊德為您一起分享的內(nèi)容,賽米萊德專業(yè)生產(chǎn)光刻膠,歡迎新老客戶蒞臨。

光刻膠市場空間與半導(dǎo)體的分不開。2012-2018年全球半導(dǎo)體市場規(guī)模復(fù)合增速8.23%,在全球半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展下,全球半導(dǎo)體光刻膠市場持續(xù)增長。

而國內(nèi)市場,因全球半導(dǎo)體、液晶面板以及消費電子等產(chǎn)業(yè)向國內(nèi)轉(zhuǎn)移,對光刻膠需求量迅速增量。

但是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠,從全球光刻膠的市場競爭格局來看,光刻膠市場主要由日韓企業(yè)主導(dǎo),國內(nèi)企業(yè)市場份額集中在低端的PCB光刻膠上,高技術(shù)壁壘的LCD 和半導(dǎo)體光刻膠主要依賴進(jìn)口。根據(jù)某些數(shù)據(jù)顯示,國內(nèi)光刻膠產(chǎn)值當(dāng)中,PCB光刻膠的占比高達(dá)95%,半導(dǎo)體光刻膠和LCD光刻膠產(chǎn)值占比都僅有2%。

由上分析可知,我國目前在光刻膠領(lǐng)域急需技術(shù)突破的。



光刻膠可以分為哪幾類

光刻膠的技術(shù)復(fù)雜,品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理,可分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠。反之,對某些溶劑是不可溶的,經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。

賽米萊德以誠信為首 ,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售光刻膠,公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊和經(jīng)營理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!



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網(wǎng)址 http://www.semild.com
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