Labspark 750T技術(shù)特點
?原位單次放電采集的專利技術(shù)（SDA）有效提高分析精度
?單板式透鏡架，擦拭時大大降低對光室的污染
?基于 ARM9 的儀器狀態(tài)實時監(jiān)控系統(tǒng)
?固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩(wěn)定性
?綠光背景燈，加快響應(yīng)速度，提高短期分析精度
?·銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性。
?·激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料。
?可變延時積分技術(shù)，大大降低背景干擾。
?高精度光電倍增管負高壓獨立供電連續(xù)可調(diào)技術(shù)，調(diào)整更精確，可程序調(diào)整，提高動態(tài)范圍。
?網(wǎng)口采集，通用性更強。
?真空光室由特殊材質(zhì)制作：極低的熱膨脹系數(shù)，受溫度波動影響小。
?全新光室結(jié)構(gòu)：可輕松檢測 Li、Na、K 等長波元素以及極短波長元素或干擾嚴重的元素，如 N、P、S、B、Sb 等。
?內(nèi)置疲勞背景燈：有效降低光電倍增管暗電流對信號
?收集的影響，提高信噪比，延長光電倍增管的使用壽命。
?自動描跡：全新設(shè)計的自動描跡系統(tǒng)，快速精準(zhǔn)，大大提高了儀器分析效率并降低了操作難度，提供自動與手動描跡切換功能。
?全新設(shè)計的共軸火花臺：采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路，大大減少了氬氣的消耗量，減少了火花臺內(nèi)部的殘留金屬粉塵并且提高了儀器分析數(shù)據(jù)時的穩(wěn)定性。

直讀光譜儀的分辨率受到入縫寬度、出縫寬度、光柵刻線數(shù)、光譜儀的焦距、光線入射角、光譜級次等因素的綜合影響,其中全譜和多道直讀光譜儀的主要區(qū)別在于出入縫寬度、光柵刻線數(shù)和焦距的不同.全譜型直讀光譜儀雖然焦距比較小,但其采用了更窄的入縫和更高刻線數(shù)的光柵,因此其光學(xué)分辨率與大型多道光譜儀相當(dāng);而且大型多道直讀光譜儀采用PMT作為檢測器,必須配合出縫來選擇光譜,受制于光譜強度、出縫的加工和光學(xué)調(diào)試難度等因素的影響,出縫寬度通常在50μm左右,影響了多道光譜儀的分辨能力.而全譜型直讀光譜儀采用CCD作為檢測器,其像素寬度僅為10μm左右,大大提高了光譜的分辨能力.

Labspark 750T 精密直讀火花光譜儀技術(shù)參數(shù)
Labspark 750T 技術(shù)優(yōu)勢
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料。
?獨特的恒溫式火花臺設(shè)計，環(huán)狀氬氣流方式，保證連續(xù)激發(fā)狀態(tài)下儀器的穩(wěn)定性，避免使用水冷帶來的不利影響。
?安全防護設(shè)備阻止不安全激發(fā)。
?銅基座火花臺，火花臺易于拆卸，便于清潔。
?帶有獨特配件，易于檢測多種形狀的分析對象（餅狀、棒狀、線狀）。
?一體式透鏡隔離閥，可防止因日常維護導(dǎo)致的光室污染影響強度下降，透鏡易于更換。
?放電室設(shè)計獨特，保證放電在條件下進行。
?激發(fā)電極為鎢電極。
?帕邢 - 龍格架發(fā)，高發(fā)光全息光柵。
?光柵焦距 750mm，刻線為 2400 條 /mm，
?譜線范圍：120-800nm。
?色散率：一級色散率：0.55nm/mm， 二級色散率：0.275nm/mm。
?分辨率：優(yōu)于 0.01nm。
?整體出射狹縫調(diào)試方便、快捷、便于用戶增加更改通道，節(jié)約成本。
?光柵、光電倍增管等核心部件全部進口。
?真空度由真空泵和真空控制設(shè)備控制。
?鑄鐵光室，熱膨脹系數(shù)低，保證真空度的要求。
?采用納克公司獨創(chuàng)的金屬原位分析儀的核心關(guān)鍵技術(shù) -- 單次放電采集解析技術(shù)（Single Discharge Analysis，SDA）。
?世界首創(chuàng)的多通道同步描跡提高儀器穩(wěn)定性。
?延時積分技術(shù)，國內(nèi)空白、，不同的通道采用不同的積分起始時間。
?內(nèi)部恒溫系統(tǒng)，不同的部位采用不同的恒溫條件，大大減少了外部環(huán)境變化對儀器的影響（控制精度 ±0.1℃）
?連續(xù)可調(diào)光源，對不同的材質(zhì)可以匹配不同的光源實現(xiàn)的分析結(jié)果。
?模塊化的電路設(shè)計，維修方便快捷，為遠程診斷做好了準(zhǔn)備。
?軟件可調(diào)獨立高精度負高壓模塊，負高壓精度＜ 0.05%。
?負高壓可由分析程序控制，調(diào)高分析程序的分析精度，擴展元素的分析范圍。
?實時監(jiān)控各通道負高壓、 光室溫度、火花臺溫度、真空度等重要參數(shù)，確保儀器長時間穩(wěn)定運行。
?各光電倍增管負高壓獨立 供電，消除相互干擾，運行更可靠。
?根據(jù)分析需要，可程序調(diào)整，拓寬反分析范圍。
?包括不同基體不同曲線的計算，全中文分析軟件，方便用戶操作，第三元素干擾校正，提高分析準(zhǔn)確度。

在實際工作中，由于試樣和標(biāo)準(zhǔn)樣品的冶金過程和某些物理狀態(tài)的差異，常常使工作曲線發(fā)生變化，通常標(biāo)準(zhǔn)樣品多為鍛造和軋制狀態(tài)，而日常分析為澆鑄狀態(tài)。為了避免試樣因冶金狀態(tài)變化給分析結(jié)果帶影響，常常應(yīng)使用一個與分析試樣冶金狀態(tài)和物理狀態(tài)都一樣的控樣，來控制分析結(jié)果，控樣的元素含量應(yīng)位于工作曲線含量范圍內(nèi)，并與分析試樣的含量越接近越好。同時，控制樣品的元素含量應(yīng)當(dāng)準(zhǔn)確可靠，成份分布均勻，外觀無氣孔、砂眼、裂紋等物理缺陷。