可以看出兩者計(jì)算的時(shí)間相差并不大。

因此，即使我們使用了自定義的宏，Zemax OpticStudio依舊可以高效的執(zhí)行計(jì)算。

總結(jié)

在使用Zemax OpticStudio的過(guò)程中，我們有時(shí)會(huì)遇到內(nèi)建的優(yōu)化操作數(shù)不能滿足我們要計(jì)算/返回的數(shù)值情況。這時(shí)我們需要利用ZPLM和宏結(jié)合或使用外部定義和匯編程序?qū)@些數(shù)值進(jìn)行計(jì)算和優(yōu)化。兩種方法，ZPLM和宏結(jié)合更為簡(jiǎn)單，與Zemax OpticStudio集成的更好，需要更少的編程技巧。

我們嘗試將溫度升高到500℃，查看平板玻璃的厚度如何變化。

1、打開多重組態(tài)編輯器并列出所有會(huì)受到溫度影響的參數(shù)

在本例MCE中，我們?cè)O(shè)定的第1一個(gè)組態(tài)為20℃。第1二個(gè)組態(tài)為500℃。同時(shí)列出所有會(huì)受到溫度影響的參數(shù)：第1、4面的厚度和半直徑以及第2、3面的厚度。

2、對(duì)第二個(gè)組態(tài)中的所有參數(shù)設(shè)定熱拾取求解

對(duì)第二個(gè)組態(tài)中的所有參數(shù)設(shè)定熱拾取求解，這個(gè)求解功能是讓Zemax OpticStudio利用內(nèi)建的熱縮放工具來(lái)計(jì)算熱系數(shù)，我們可以看到在MCE中看到各個(gè)影響參數(shù)的熱膨脹變化。也可以再次打開3D Layout并設(shè)定同時(shí)觀察兩個(gè)組態(tài)。如下圖，上面的是高溫度組態(tài)（500℃）計(jì)算出的結(jié)果，下面為常溫（20℃）組態(tài)下的計(jì)算結(jié)果。

Zemax OpticStudio使用頂點(diǎn)的曲率半徑、非球面系數(shù)和網(wǎng)格點(diǎn)數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算網(wǎng)格矢高面的近軸光焦度。

網(wǎng)格的尺寸只受限于可用內(nèi)存的大小。每個(gè)網(wǎng)格點(diǎn)需要4個(gè)8比特的雙精度數(shù)據(jù)和1個(gè)1比特值的存儲(chǔ)空間。一個(gè)255x255點(diǎn)陣的網(wǎng)格文件大約需要2Mb的內(nèi)存。

雙三次樣條插值算法平滑至三階導(dǎo)，它得到的結(jié)果在格點(diǎn)上有精1確值且不需要很大的網(wǎng)格文件就能得到很平滑的表面面型，但不能準(zhǔn)確地模擬更高階的非球面。

網(wǎng)格矢高表面沒(méi)有定義網(wǎng)格邊界之外的部分時(shí)，光線追跡到網(wǎng)格表面之外將被視為光線丟失錯(cuò)誤。在定義表面時(shí)，將表面區(qū)域定義為比光線照射部分尺寸更大的面可以有效避免這一錯(cuò)誤。特別是不要將網(wǎng)格大小定義為與與光線照射區(qū)域相同的尺寸，否則光線追跡到網(wǎng)格表面邊緣時(shí)有可能不會(huì)再繼續(xù)追跡。

當(dāng)使用網(wǎng)格矢高表面模擬表面極度彎曲的光學(xué)器件時(shí)，用戶最1好將基礎(chǔ)面定義為相近的面型，再在此基礎(chǔ)上定義相對(duì)矢高，而不是直接用網(wǎng)格矢高面定義整個(gè)面型。

目前而言，Zemax OpticStudio無(wú)法直接對(duì)網(wǎng)格數(shù)據(jù)進(jìn)行優(yōu)化或公差分析。