光電直讀發(fā)射光譜儀 光譜儀江蘇
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光電直讀發(fā)射光譜儀 光譜儀江蘇

光電直讀發(fā)射光譜儀-光譜儀江蘇

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光學(xué)系統(tǒng) 帕邢 - 龍格架發(fā)
光柵焦距 750mm
刻線 2400 條 /mm
譜線范圍 170-500nm
一級(jí)色散率 0.55nm/mm
二級(jí)色散率 0.275nm/mm
分辨率 優(yōu)于 0.01nm
商品介紹
直讀光譜實(shí)驗(yàn)室安裝條件要達(dá)標(biāo)。
①實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的環(huán)境溫度要控制在10-30℃,相對(duì)濕度控制在20%-80%,確保無(wú)腐蝕性氣體。
②氬氣的供給純度要達(dá)到99.999%以上,不純氬氣中雜質(zhì)影響激發(fā)效果,降低元素的光強(qiáng)值,分析結(jié)果出現(xiàn)偏差。
③輸入實(shí)驗(yàn)室的電源要接在交流穩(wěn)壓器上,輸出電壓接到直讀光譜儀器上,電源電壓波動(dòng)范圍控制在-5%~+5%以?xún)?nèi)。
做好樣品分析準(zhǔn)備。 設(shè)備和PC電源電壓選擇開(kāi)關(guān)要設(shè)置適當(dāng)?shù)妮斎腚妷?,過(guò)濾灌水量要在三分之一,氬氣壓力設(shè)置為0.5MPa。光譜儀打開(kāi)后少穩(wěn)定一個(gè)小時(shí)。激發(fā)試樣看激發(fā)點(diǎn)是否正常,做程序修正,觀察數(shù)據(jù)穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。根據(jù)情況決定是不是要做光譜校正和標(biāo)準(zhǔn)化。
正確進(jìn)行樣品分析。
認(rèn)真制備試樣 樣品切割和磨樣處理后,激發(fā)面能密封住激發(fā)孔,樣品表面清潔,無(wú)裂紋、砂眼、氣孔等缺陷,樣品和激發(fā)板不能漏氣。
激發(fā)樣品 樣品制備好后在激發(fā)臺(tái)激發(fā)3次,刪除異常點(diǎn),留三組數(shù)據(jù)取平均值。
做好直讀光譜儀的維護(hù)保養(yǎng)。
要按時(shí)清潔儀器可見(jiàn)光透鏡和紫外光透鏡,定期檢查更換排氣瓶的水量,定期清潔空氣濾芯、更換濾芯。
定期清潔火花臺(tái),樣品激發(fā)的過(guò)程產(chǎn)生的金屬蒸氣一部分附在火花臺(tái)上,久而久之大量粉末沉積,降低兩電極之間的絕緣性能,影響激發(fā)效果。
光電直讀發(fā)射光譜儀,國(guó)產(chǎn)直讀直讀光譜儀
隨著使用時(shí)間的推移,光室、光學(xué)器件會(huì)發(fā)生非常微小的形變,就是這些微小的形變都會(huì)引起光路細(xì)微的漂移,從而導(dǎo)致儀器測(cè)試精度和準(zhǔn)確度的改變,而且這個(gè)漂移會(huì)隨著時(shí)間的延遲表現(xiàn)的越來(lái)越明顯,如果要再次提高儀器的性能就需要人為的調(diào)整參數(shù)來(lái)修正這部分漂移,從而改善光譜儀的性能。
光電直讀發(fā)射光譜儀,國(guó)產(chǎn)直讀直讀光譜儀
光譜儀在分析的過(guò)程中,電火花燃燒樣品表面會(huì)產(chǎn)生金屬粉塵,大部分的金屬粉塵都會(huì)隨著氬氣吹掃排到過(guò)濾罐中,然而也會(huì)有少部分金屬粉塵會(huì)停留在激發(fā)室里,時(shí)間長(zhǎng)了會(huì)堆積污染激發(fā)室和光學(xué)透鏡,引起測(cè)量數(shù)據(jù)波動(dòng),誤差變大,所以需要定期的清理來(lái)改善激發(fā)室環(huán)境,改善測(cè)量數(shù)據(jù)。
光譜儀在使用的過(guò)程中,會(huì)有一部分金屬粉塵、金屬屑、灰塵掉落到儀器內(nèi)部電路模塊上,如果不及時(shí)清理可能會(huì)導(dǎo)致電路模塊短路,一些核心的電路板損壞維修費(fèi)用會(huì)很高,所以需要及時(shí)的清理儀器內(nèi)部灰塵,保證電路的正常運(yùn)行。
儀器使用年限長(zhǎng)了后,儀器內(nèi)部一些器件會(huì)發(fā)生老化,這部分器件需要及時(shí)的發(fā)現(xiàn)更換,否則會(huì)引起嚴(yán)重的光譜儀故障。
化驗(yàn)員在使用過(guò)程中可能會(huì)存在一些不規(guī)范的操作,這些操作可能會(huì)導(dǎo)致測(cè)試誤差,嚴(yán)重的誤操作也可能會(huì)導(dǎo)致光譜儀故障,的方式是能和專(zhuān)業(yè)的光譜工程師溝通交流,讓工程師發(fā)現(xiàn)化驗(yàn)員的不規(guī)范操作,及時(shí)糾正,確保儀器的正常使用。
光電直讀發(fā)射光譜儀,國(guó)產(chǎn)直讀直讀光譜儀
光電光譜分析選用的分析線,必需符合下列要求。
直讀光譜分析時(shí),一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成,常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱(chēng),就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí),兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化,但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。
如R表示強(qiáng)度比即 R=I1/I0
I1為分析線的強(qiáng)度,Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度,表明I1和Io同時(shí)變,而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。
在光電直讀光譜分析時(shí),有很多分析通道,要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難,因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線,這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來(lái)解決。
光電法時(shí),有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來(lái)控制曝光量,稱(chēng)為自動(dòng)曝光,也就是樣品在曝光時(shí),分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電,當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí),自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I,并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io,而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。
-/hbahabd/-
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公司名稱(chēng) 鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
聯(lián)系賣(mài)家 文先生 (QQ:415905311)
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