起草的標(biāo)準(zhǔn)情況：
釓鎂合金中稀土與非稀土雜質(zhì)AlCuCaFeSiNi的測(cè)定。 2009年
釓鐵合金中非稀土元素AlCaMgMn的測(cè)定。 2010年
鐠釹鏑合金中稀土與非稀土雜質(zhì)以及配分測(cè)定。（起草）
釹鐵硼廢渣中稀土與非稀土雜質(zhì)測(cè)定以及配分測(cè)定。（進(jìn)行到二驗(yàn)，標(biāo)準(zhǔn)未公布）。

ICP-AES發(fā)展趨勢(shì)：
1、 儀器小型化，臺(tái)式機(jī)。（光源小型化、光室小型化）
2、 波長(zhǎng)范圍的拓寬。
3、 光學(xué)分辨率的提高。
4、 光源的穩(wěn)定性及減少氬氣消耗的新技術(shù)。
5、 更加高效穩(wěn)定的進(jìn)樣系統(tǒng)。
6、 軟件更加方便、智能。功能更加強(qiáng)大。

鋼研納克總部位于北京市海淀區(qū)，在北京、上海、河北、山東擁有研發(fā)及生產(chǎn)基地，并設(shè)有覆蓋全國(guó)的直屬營(yíng)銷和售后服務(wù)網(wǎng)點(diǎn)，為客戶提供完善、便捷的服務(wù)。

ICP-OES和ICPMS精密度不同：
ICP-MS的短期精密度一般是1～3% RSD，這是應(yīng)用多內(nèi)標(biāo)法在常規(guī)工作中得到的。長(zhǎng)期(幾個(gè)小時(shí))精密度為小于5%RSD。使用同位素稀釋法可以得到很好的準(zhǔn)確度和精密度，但這個(gè)方法的費(fèi)用對(duì)常規(guī)分析來講是太貴了。
ICP-OES的短期精密度一般為0.3～2%RSD，幾個(gè)小時(shí)的長(zhǎng)期精密度小于3%RSD。