煤焦化廠不銹鋼升氣管盤(pán)式分布器氧化槽管式氣體分布器

        升氣管盤(pán)式分布器是常用的液體分布器之一，它是在底盤(pán)上開(kāi)布液小孔及升氣管，氣體從升氣管上升，而液體則從小孔中向下流。底盤(pán)固定在塔圈上，固定方法與塔板相同。根據(jù)塔中填料的類(lèi)型及被分離物系的要求，布液孔的排列及孔數(shù)要合適。升氣管截面可以是圓形或矩形，其高度為２５０ｍｍ左右，由物系和操作彈性而定，對(duì)只有人孔的塔，也要考慮從入孔進(jìn)入的可能性。其操作彈性為１：２．用于直徑小于一米的塔時(shí)，也做成帶邊緣形式的分布器，對(duì)于有法蘭的小塔，也可制成整體式。分布器用支耳固定在塔壁上，其與塔壁之間空隙作為氣體通道，約占塔截面各的１５％，因而可減小盤(pán)內(nèi)升氣管面積，以利布液小孔的布局。小孔直徑應(yīng)大于５ｍｍ。

        煤焦化廠不銹鋼升氣管盤(pán)式分布器氧化槽管式氣體分布器的升氣管的作用是使塔內(nèi)上升氣相通過(guò)分布器進(jìn)入上面的填料層，因些要求它均勻分布?xì)庀啵易枇σ?，要便于安排布液小孔，其總面積占塔截面的１５－４５％，常采用圓形或矩形兩種截面，圓形升氣管直徑一般為１００－１５０ｍｍ，通常矩形升氣管的氣體通道截面大于圓形升氣管。升氣管高度可以根據(jù)需要而定，但標(biāo)準(zhǔn)高度為１５０ｍｍ。高液位要低于升氣管上沿２５－５０ｍｍ。操作彈性由高液位和低液位而定。

        煤焦化廠不銹鋼升氣管盤(pán)式分布器氧化槽管式氣體分布器與槽式分布器相比，由于其所有布液小孔處于同一液位高度，故液體分布較均勻，而槽式分布器難以做到各分槽的液位高度相同；其占據(jù)的空間較小。它的不足之處是用作再分布器是，液相深度混合度較差，氣相通過(guò)的阻力要高于槽式分布器。安裝位置上，盤(pán)式液體分布器要求有足夠的氣體釋放空間，一般安裝在填料層上方１５０－３００ｍｍ處，而槽式分布器可直接安置于填料壓圈上，距填料層上面５０ｍｍ。對(duì)于直徑大于３米的大塔，可采用盤(pán)式分布器，它用一個(gè)（對(duì)于更大的塔可用多個(gè)）支承梁將分布器分成兩部分，設(shè)計(jì)時(shí)要考慮大負(fù)荷下梁的每米大撓度小于１．５ｍｍ。塔壁支承圈視塔徑而定，可?。矗埃保埃埃恚恚瑑蓚€(gè)主分布槽置于矩形升氣通道之上，進(jìn)入的液體由導(dǎo)管分配到該槽中，再由該槽將液體進(jìn)到盤(pán)上，這樣可減小盤(pán)上液面落差并加強(qiáng)液相的濃度混合。