這就體現(xiàn)出正確設(shè)置系統(tǒng)參數(shù)的重要性了。5 mm 1/e2直徑的激光照射的系統(tǒng)的結(jié)果（RMS OPD：~2.10-3）與均勻光照射的結(jié)果（RMS OPD ：3.10-3）肯定是不同的。因?yàn)楫?dāng)光源為高斯光時(shí)，球差在光瞳邊緣的效應(yīng)相比于均勻光入射小很多。

接下來(lái)，我們來(lái)考慮制造誤差對(duì)系統(tǒng)的影響。

制造公差

公差分析目的是考慮制造誤差對(duì)系統(tǒng)的影響，因此設(shè)計(jì)時(shí)必須考慮實(shí)際的制造情況。為了能夠更好地分析公差，模擬出符合實(shí)際的情況，首先我們應(yīng)該了解系統(tǒng)所用鏡片在批量生產(chǎn)時(shí)的制造流程和測(cè)試方法。

公差分析結(jié)果

因?yàn)槲覀冎霸O(shè)定了重疊Monte-Carlo分析圖，并且在軟件中我們打開(kāi)了OPD圖，因此可以看到OPD圖中看到20個(gè)Monte-Carlo循環(huán)計(jì)算的結(jié)果：看起來(lái)距離我們的目標(biāo)0.05的RMS波長(zhǎng)還很遠(yuǎn)。

在靈敏度分析（Sensitivity Analysis）的過(guò)程中，Zemax OpticStudio首先計(jì)算原始設(shè)計(jì)系統(tǒng) （nominal system）的公差標(biāo)準(zhǔn)，讀取第1一個(gè)公差操作數(shù)，將其調(diào)整到最1小值，調(diào)整補(bǔ)償器（優(yōu)化），返回公差評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)值。然后再重復(fù)操作，但這次是將公差操作數(shù)調(diào)整到最1大值。最后所有公差都會(huì)執(zhí)行這一步驟。

Zemax OpticStudio使用頂點(diǎn)的曲率半徑、非球面系數(shù)和網(wǎng)格點(diǎn)數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算網(wǎng)格矢高面的近軸光焦度。

網(wǎng)格的尺寸只受限于可用內(nèi)存的大小。每個(gè)網(wǎng)格點(diǎn)需要4個(gè)8比特的雙精度數(shù)據(jù)和1個(gè)1比特值的存儲(chǔ)空間。一個(gè)255x255點(diǎn)陣的網(wǎng)格文件大約需要2Mb的內(nèi)存。

雙三次樣條插值算法平滑至三階導(dǎo)，它得到的結(jié)果在格點(diǎn)上有精1確值且不需要很大的網(wǎng)格文件就能得到很平滑的表面面型，但不能準(zhǔn)確地模擬更高階的非球面。

網(wǎng)格矢高表面沒(méi)有定義網(wǎng)格邊界之外的部分時(shí)，光線追跡到網(wǎng)格表面之外將被視為光線丟失錯(cuò)誤。在定義表面時(shí)，將表面區(qū)域定義為比光線照射部分尺寸更大的面可以有效避免這一錯(cuò)誤。特別是不要將網(wǎng)格大小定義為與與光線照射區(qū)域相同的尺寸，否則光線追跡到網(wǎng)格表面邊緣時(shí)有可能不會(huì)再繼續(xù)追跡。

當(dāng)使用網(wǎng)格矢高表面模擬表面極度彎曲的光學(xué)器件時(shí)，用戶(hù)最1好將基礎(chǔ)面定義為相近的面型，再在此基礎(chǔ)上定義相對(duì)矢高，而不是直接用網(wǎng)格矢高面定義整個(gè)面型。

目前而言，Zemax OpticStudio無(wú)法直接對(duì)網(wǎng)格數(shù)據(jù)進(jìn)行優(yōu)化或公差分析。