金屬濺射靶材

中諾新材定制加工不同尺寸，不同純度的靶材，產(chǎn)品具備純度高。結(jié)構(gòu)致密，晶粒度小的特點，滿足客戶對高品質(zhì)靶材的需求。

高純金屬靶材，純度99.9-99.9999%?？商峁﹫A靶，矩形靶，管靶等。

常規(guī)金屬靶材Al，Cu，Ti，Ni，Co，V，W，Mo，Ta，Ni

金屬靶材Ag Au Pt Pd Ru Rh Ir

稀土金屬靶材La Ce Pr Nd Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu

非金屬靶材B C Si Ge Se Te

合金靶材Ni-Cr Ni-V Ni-Ti W-Ti Ti-Al Cr-Al NiCrAlY……

以上產(chǎn)品純度99.9-99.9999%?？商峁﹫A靶，矩形靶，管靶等。

合金熔煉材料

隨著材料行業(yè)的快速發(fā)展，新型合金材料潛力巨大。高溫合金，高熵合金，非晶合金等各種特殊要求合金對熔煉原料的要求越來越高。中諾新材可根據(jù)客戶不同爐體坩堝對投料數(shù)量的要求，定制加工各種高純度，不同規(guī)格的金屬原料。

分類——常規(guī)規(guī)格——適用范圍

標(biāo)準(zhǔn)顆粒——φ2*5mmφ3*3mmφ6*6mm 10*10*2mm——投料量小，純度要求高，配比要求準(zhǔn)確

破碎小塊——1-10mm 2-6mm 3-5mm——投料量小，純度要求較高，配比要求準(zhǔn)

切割大塊——1-3cm  3-5cm  ＜10cm——投料量大，純度要求高

批量塊錠——25kg/桶  100kg/件——投料量大，純度要求不高，可獨立加工處理

貴金屬產(chǎn)品說明

隨著電子，半導(dǎo)體科學(xué)的發(fā)展，貴（gui）金屬以其優(yōu)質(zhì)的性能，應(yīng)用越來越廣泛。中諾新材可提供各種貴（gui）金屬的原材料及金、銀、鉑、鈀、釕，銠，銥的靶材和蒸發(fā)材料，價格與國內(nèi)市場價格同步。并可對金鉑等貴（gui）金屬材料進(jìn)行二次回收。中諾新材可提供的貴（gui）金屬材料有：高純金，高純銀，高純鉑，高純鈀，高純釕，高純銠，高純銥。

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機(jī)加工制造而成。純度均可達(dá)到99.99%，主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、太陽能光伏、平面顯示、磁學(xué)等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機(jī)加工成靶，產(chǎn)品純度可達(dá)99.95%。主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、磁學(xué)等行業(yè)。