高純蒸發(fā)料

蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應(yīng)商，可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發(fā)，鎢舟，鉬舟蒸發(fā)，各種坩堝蒸發(fā)等。

同時(shí)，這些材料亦廣泛應(yīng)用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領(lǐng)域。

氧化鋁 Al2O3 99.99 顆粒 粉末

氧化鎂 MgO 99.99 顆粒 粉末

氧化鈦 TiO TiO2 Ti3O5 99.99 顆粒 粉末 壓片

氧化鉿 HfO2 99.99 顆粒 粉末 壓片

氧化鉭 Ta2O5 99.99 顆粒 粉末 壓片

氧化銦 In2O3 99.99 顆粒 粉末

氧化硅 SiO SiO2 99.99 99.999 顆粒 粉末

氧化鋯 ZrO2 99.99 顆粒 粉末 壓片

氧化鈮 Nb2O5 99.99 顆粒 粉末

氧化鋅 ZnO 99.99 顆粒 粉末 壓片

氟化鎂 MgF2 99.99 顆粒 粉末

氟化鐿 YbF3 99.99 顆粒 壓片

氟化釔 YF3 99.99 顆粒 粉末

硫化鋅 ZnS 99.99 顆粒 粉末 壓片

硒化鋅 ZnSe 99.999 顆粒 粉末

鈦酸鑭 La2O7Ti12 99.99 顆粒

鈦酸鋇 BaTiO3 99.99 顆粒

鈦酸鍶 SrTiO3 99.99 顆粒

冰晶石 Na3AlF6 99.99 顆粒

氧化銦錫 ITO 99.99 顆粒 粉末 壓片

中諾新材可根據(jù)您的需求，為您定制不同化合物，不同比例的摻雜靶材。通過球磨制粉，共沉積制粉，真空熱壓燒結(jié)，常壓燒結(jié)等工藝，可保證靶材摻雜比例準(zhǔn)確，摻雜相單一，致密度高。

部分定制靶材如下：

氧化銦錫 ITO In2O3:SnO2=90:10 wt%

氧化鋅鋁 AZO ZnO:Al2O3=98:2 wt%

銅銦硒 CIGS Cu:In:Ga:Se=1:0.7:0.3:2 at%

氧化鋅摻雜氧化鎂等

氧化銦鋅 IGZO In:Ga:Zn=2:2:1 at%

鈦鋯酸鉛 PZT Pb1.2Zr0.52Ti0.48O3

鍺銻碲 GST Ge:Sb:Te=2:2:5 at%