貴金屬靶材尺寸

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機(jī)加工制造而成。純度均可達(dá)到99.99%，主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、太陽能光伏、平面顯示、磁學(xué)等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機(jī)加工成靶，產(chǎn)品純度可達(dá)99.95%。主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、磁學(xué)等行業(yè)。

常規(guī)靶材有：

高純金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鉑 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鈀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純釕 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銠 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純銥 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常規(guī)厚度1-6mm

可定制加工的圓靶方靶，可提供靶材綁定服務(wù)。

中諾新材可提供不同形態(tài)的貴(gui)金屬蒸發(fā)材料。常規(guī)規(guī)格如下：

商品名稱常規(guī)尺寸

高純金顆粒 99.999%φ3*3mm φ1mm、φ0.5mm

高純銀顆粒 99.99%φ2*5mm φ1mm、φ0.5mm

高純鉑顆粒 99.99%φ2*5mm φ1mm、φ0.5mm

高純鈀顆粒 99.99%φ2*5mm φ1mm、φ0.5mm

高純釕顆粒 99.95%1-6mm   10-20mm

高純銠顆粒 99.95%φ2*5mm

高純銥顆粒 99.95%φ2*5mm

另外，我公司可提供多種蒸發(fā)用耗材如：鎢絲籃、鎢蒸發(fā)舟，鉬蒸發(fā)舟、鎢坩堝，鉬坩堝，銅坩堝，石墨坩堝，氮化硼坩堝等產(chǎn)品，并且可根據(jù)用戶需求進(jìn)行定制加工。

中諾新材可根據(jù)您的需求，為您定制不同化合物，不同比例的摻雜靶材。通過球磨制粉，共沉積制粉，真空熱壓燒結(jié)，常壓燒結(jié)等工藝，可保證靶材摻雜比例準(zhǔn)確，摻雜相單一，致密度高。

部分定制靶材如下：

氧化銦錫 ITO In2O3:SnO2=90:10 wt%

氧化鋅鋁 AZO ZnO:Al2O3=98:2 wt%

銅銦硒 CIGS Cu:In:Ga:Se=1:0.7:0.3:2 at%

氧化鋅摻雜氧化鎂等

氧化銦鋅 IGZO In:Ga:Zn=2:2:1 at%

鈦鋯酸鉛 PZT Pb1.2Zr0.52Ti0.48O3

鍺銻碲 GST Ge:Sb:Te=2:2:5 at%