此產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于真空鍍膜行業(yè)，多弧離子鍍膜設(shè)備，應(yīng)用于各種膜層的鍍制，銀色，金色，玫瑰金，黑鈦，玫瑰紅，七彩色等
1.應(yīng)用領(lǐng)域
產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于真空制鹽，精細(xì)化工，石油化工，制藥，氯堿工業(yè)，電鍍，電解，航空
航天，海水淡化等行業(yè)。
2、加工工藝
鍛造、軋制
3、表面
車光、倒角。表面清潔光滑，無起皮，氣孔，裂紋等缺陷。
4、規(guī)格
Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40較常見，其他規(guī)格可按客戶
要求制作。
5、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)
國(guó)標(biāo)：GB/T 16598，GB/T2965 。
美標(biāo)：ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。
6、檢測(cè)
破壞性檢測(cè)：物理性能測(cè)試，硬度測(cè)試，化學(xué)成分測(cè)試。
無損檢測(cè)：超聲檢測(cè)，滲透檢測(cè)，外觀檢測(cè)。
多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速
率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分
布更均勻。

鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形
成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光
武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同
的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、
銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等

專業(yè)生產(chǎn)銷售各種金屬靶材：鈦靶、鉻靶、鋯靶、鎳靶、鋁靶、銅靶、鎢靶、鉬靶、鉭靶、鈮靶
、鈦鋁靶、鈦鈮靶、鈦鋯靶、鎳鉻靶及各種比例的合金靶材、大口徑圓柱靶、平面靶、鎢鉬舟、
坩堝、蒸發(fā)鍍顆粒等.
歡迎廣大新老客戶的來電咨詢洽談。